Halfgeleider douchekoppen

Degasverdelingsplaat, vaak aangeduid als een "douchekop", kan op een conventionele douchekop lijken, maar de prijs kan in de honderdduizenden reiken, aanzienlijk hoger dan een typische badkamer douche.

Het oppervlak van de gasverdelingsplaat heeft honderden of zelfs duizenden kleine, nauwkeurig gerangschikte gaten, die lijkt op een fijn geweven neuraal netwerk. Dit ontwerp zorgt voor een nauwkeurige regeling van de gasstroom- en injectiehoeken, waardoor elk deel van het verwerkingsgebied van de wafer gelijkmatig in procesgas "baadt". Dit verbetert niet alleen de productie -efficiëntie, maar verbetert ook de productkwaliteit.

De gasverdelingsplaat is een integraal onderdeel van belangrijke processen zoals reinigen, etsen en afzetting. Het beïnvloedt direct de nauwkeurigheid van halfgeleiderprocessen en de kwaliteit van de eindproducten, waardoor het een cruciaal onderdeel is in verschillende gasdistributietoepassingen.

Tijdens het wafelreactieproces, het oppervlak van dedouchekopis dicht bedekt met microporiën (diafragma 0,2-6 mm). Door de nauwkeurig ontworpen kanaalstructuur en gaspad moet het speciale procesgas duizenden kleine gaten op de uniforme gasplaat passeren en vervolgens gelijkmatig worden afgezet op het wafeloppervlak. De filmlaag in verschillende delen van de wafel moet zorgen voor een hoge uniformiteit en consistentie. Daarom heeft de gasverdelingsplaat, naast extreem hoge vereisten voor netheid en corrosieweerstand, strikte eisen aan de consistentie van de diafragma van de kleine gaten op de gasverdelingsplaat en de bramen op de binnenwand van de kleine gaten. Als de standaardafwijking van de openingsgrootte en de standaarddeviatie van de consistentie te groot zijn of zijn er bramen op een binnenwand, zal de dikte van de afgezette filmlaag anders zijn, wat rechtstreeks de procesopbrengst van de apparatuur beïnvloedt.

Het materiaal van de gasverdelingsplaat is soms bros materiaal (zoals silicium met één kristal, kwartsglas, keramiek), dat gemakkelijk te breken is onder de werking van externe kracht. Het is ook een ultradiep gat binnen 50 keer de diameter van de micropore en de snijsituatie kan niet direct worden waargenomen. Bovendien is de snijwarmte niet eenvoudig te verzenden en is de chipverwijdering moeilijk en is de boorbit gemakkelijk te verbreken als gevolg van chipblokkering. Daarom is de verwerking en voorbereiding ervan erg moeilijk.

Bovendien moet in plasma-geassisteerde processen (zoals PECVD en droog etsen) de douchekop, als onderdeel van de elektrode, ook een uniform elektrisch veld genereren via een RF-voeding om een uniforme verdeling van plasma te bevorderen, waardoor de uniformiteit van etsen of afzetting wordt verbeterd.

Aangezien de gassen die worden gebruikt in het productieproces van halfgeleiders, hoge temperatuur, hoge druk of corrosief kunnen zijn, is de douchekop meestal gemaakt van corrosiebestendige materialen. In de werkelijke productie, vanwege verschillende gebruiksscenario's en werkelijke vereiste precisie, kan de gasverdelingsplaat worden onderverdeeld in de volgende twee categorieën volgens de materiaalsamenstelling:

(1) metaalgasverdelingsplaat

De materialen van metaalgasverdelingplaten omvatten aluminiumlegering, roestvrij staal en nikkelmetaal, waaronder het meest gebruikte metaalgasverdelingsplaatmateriaal is aluminiumlegering, omdat het een goede thermische geleidbaarheid en sterke corrosieweerstand heeft. Het is op grote schaal beschikbaar en gemakkelijk te verwerken.

(2) niet-metalen gasverdelingsplaat

De materialen van niet-metalen gasverdelingsplaten omvatten silicium met één kristallen, kwartsglas en keramische materialen. Onder hen zijn de veelgebruikte keramische materialen CVD-SIC, Alumina Ceramics, Silicon Nitride Ceramics, enz.

Semicorex biedt hoogwaardigeCVD sic douchekoppenin de halfgeleiderindustrie. Als u vragen heeft of aanvullende details nodig hebt, aarzel dan niet om contact met ons op te nemen.

Neem contact op met telefoon # +86-13567891907

E -mail: sales@semicorex.com