Vat-susceptors zijn een cruciaal onderdeel dat wordt gebruikt in verschillende productieprocessen van halfgeleiders, zoals LPE, MOCVD. Semicorex brengt zeer zuiver siliciumcarbide in dunne lagen aan op het grafiet met behulp van het chemische dampdepositieproces (CVD), waardoor de halfgeleiderkwaliteit uitstekende thermische stabiliteit, chemische weerstand en slijtvastheid heeft, waardoor ze ideaal zijn voor gebruik in hoge- temperatuur processen.
● Zeer zuiver SiC-gecoat grafiet
● Superieure hittebestendigheid en chemische bestendigheid
● Hoge thermische uniformiteit
● Uitstekende slijtvastheid
Semicorex CVD SiC Coated Barrel Susceptor is een zorgvuldig ontworpen component die op maat is gemaakt voor geavanceerde halfgeleiderproductieprocessen, met name epitaxie. Onze producten hebben een goed prijsvoordeel en bestrijken de meeste Europese en Amerikaanse markten. We kijken ernaar uit om uw langetermijnpartner in China te worden.
Lees verderStuur onderzoekSemicorex Barrel Susceptor Silicon Carbide Coated Graphite is een gespecialiseerd onderdeel dat is ontworpen voor gebruik in het epitaxieproces, met name bij het dragen van wafers. Neem vandaag nog contact met ons op voor meer informatie over hoe wij u kunnen helpen met uw halfgeleiderwafelverwerkingsbehoeften.
Lees verderStuur onderzoekSemicorex SiC gecoate vat susceptor voor LPE epitaxiale groei is een hoogwaardig product dat is ontworpen om consistente en betrouwbare prestaties te leveren gedurende een langere periode. Het gelijkmatige thermische profiel, het laminaire gasstroompatroon en het voorkomen van verontreiniging maken het een ideale keuze voor de groei van hoogwaardige epitaxiale lagen op waferchips. De aanpasbaarheid en kosteneffectiviteit maken het tot een zeer concurrerend product op de markt.
Lees verderStuur onderzoekSemicorex Barrel Susceptor Epi System is een hoogwaardig product dat superieure coatinghechting, hoge zuiverheid en oxidatieweerstand bij hoge temperaturen biedt. Het gelijkmatige thermische profiel, het laminaire gasstroompatroon en het voorkomen van verontreiniging maken het een ideale keuze voor de groei van epixiale lagen op waferchips. De kosteneffectiviteit en aanpasbaarheid maken het tot een zeer concurrerend product op de markt.
Lees verderStuur onderzoekSemicorex Liquid Phase Epitaxy (LPE) Reactorsysteem is een innovatief product dat uitstekende thermische prestaties, een gelijkmatig thermisch profiel en superieure coatinghechting biedt. De hoge zuiverheid, oxidatieweerstand bij hoge temperaturen en corrosieweerstand maken het een ideale keuze voor gebruik in de halfgeleiderindustrie. De aanpasbare opties en kosteneffectiviteit maken het tot een zeer concurrerend product op de markt.
Lees verderStuur onderzoekSemicorex CVD Epitaxiale Depositie In Barrel Reactor is een zeer duurzaam en betrouwbaar product voor het kweken van epixiale lagen op waferchips. De oxidatieweerstand bij hoge temperaturen en de hoge zuiverheid maken het geschikt voor gebruik in de halfgeleiderindustrie. Het gelijkmatige thermische profiel, het laminaire gasstroompatroon en het voorkomen van besmetting maken het een ideale keuze voor hoogwaardige groei van epixiale lagen.
Lees verderStuur onderzoek