Barrel-susceptors zijn een cruciaal onderdeel dat wordt gebruikt in verschillende fabricageprocessen voor halfgeleiders, zoals LPE, MOCVD. Semicorex brengt zeer zuiver siliciumcarbide in dunne lagen aan op het grafiet met behulp van het chemical vapour deposition (CVD)-proces, waardoor het materiaal van halfgeleiderkwaliteit wordt met een uitstekende thermische stabiliteit, chemische weerstand en slijtvastheid, waardoor ze ideaal zijn voor gebruik in hoge- temperatuur processen.
â SiC-gecoat grafiet met hoge zuiverheid
â Superieure hittebestendigheid en chemische weerstand
â Hoge thermische uniformiteit
â Uitstekende slijtvastheid
Semicorex CVD SiC Coated Barrel Susceptor is een zorgvuldig ontworpen component die op maat is gemaakt voor geavanceerde halfgeleiderproductieprocessen, met name epitaxie. Onze producten hebben een goed prijsvoordeel en bestrijken de meeste Europese en Amerikaanse markten. We kijken ernaar uit om uw langetermijnpartner in China te worden.
Lees verderStuur onderzoekSemicorex Barrel Susceptor Silicon Carbide Coated Graphite is een gespecialiseerd onderdeel dat is ontworpen voor gebruik in het epitaxieproces, met name bij het dragen van wafers. Neem vandaag nog contact met ons op voor meer informatie over hoe wij u kunnen helpen met uw halfgeleiderwafelverwerkingsbehoeften.
Lees verderStuur onderzoekSemicorex SiC Coated Barrel Susceptor voor LPE Epitaxial Growth is een hoogwaardig product dat is ontworpen om gedurende een langere periode consistente en betrouwbare prestaties te leveren. Het gelijkmatige thermische profiel, het laminaire gasstroompatroon en de preventie van verontreiniging maken het een ideale keuze voor de groei van hoogwaardige epitaxiale lagen op waferchips. De aanpasbaarheid en kosteneffectiviteit maken het tot een zeer concurrerend product op de markt.
Lees verderStuur onderzoekSemicorex Barrel Susceptor Epi-systeem voor LPE Epitaxy is een hoogwaardig product dat superieure coatingadhesie, hoge zuiverheid en oxidatiebestendigheid bij hoge temperaturen biedt. Het gelijkmatige thermische profiel, het laminaire gasstroompatroon en de preventie van verontreiniging maken het een ideale keuze voor de groei van epixiale lagen op waferchips. De kosteneffectiviteit en aanpasbaarheid maken het tot een zeer concurrerend product op de markt.
Lees verderStuur onderzoekHet Semicorex Liquid Phase Epitaxy (LPE) Reactorsysteem is een innovatief product dat uitstekende thermische prestaties, een gelijkmatig thermisch profiel en een superieure hechting van de coating biedt. De hoge zuiverheid, oxidatieweerstand bij hoge temperaturen en corrosieweerstand maken het een ideale keuze voor gebruik in de halfgeleiderindustrie. De aanpasbare opties en kosteneffectiviteit maken het tot een zeer concurrerend product op de markt.
Lees verderStuur onderzoekSemicorex CVD Epitaxial Deposition In Barrel Reactor is een zeer duurzaam en betrouwbaar product voor het laten groeien van epixiale lagen op waferchips. De hoge temperatuurbestendigheid tegen oxidatie en hoge zuiverheid maken het geschikt voor gebruik in de halfgeleiderindustrie. Het gelijkmatige thermische profiel, het laminaire gasstroompatroon en de preventie van verontreiniging maken het een ideale keuze voor hoogwaardige epixiale laaggroei.
Lees verderStuur onderzoek