Semicorex grafiet middenplaat of MOCVD susceptor is siliciumcarbide van hoge zuiverheid, gecoat door chemische dampafzetting (CVD), waarbij tijdens het proces de epitaxiale laag op de waferchip wordt gekweekt. De met SiC gecoate susceptor is een essentieel onderdeel van de MOCVD en vereist dus een superieure hitte- en chemische bestendigheid, evenals een hoge thermische uniformiteit. We hebben speciaal ontwikkeld voor deze veeleisende toepassingen van epitaxieapparatuur.
Semicorex 6 "wafershouders zijn krachtige drager ontworpen voor de rigoureuze eisen van SiC-epitaxiale groei. Kies semicorex voor ongeëvenaarde materiaalzuiverheid, precisie-engineering en bewezen betrouwbaarheid in hoge-temperatuur, hoogrentende SIC-processen.*
Lees verderStuur onderzoekSemicorex MOCVD Waferholder is een onmisbaar onderdeel voor de groei van SiC-epitaxie en biedt superieur thermisch beheer, chemische weerstand en maatvastheid. Door te kiezen voor de waferhouder van Semicorex verbetert u de prestaties van uw MOCVD-processen, wat leidt tot producten van hogere kwaliteit en een grotere efficiëntie in uw halfgeleiderproductieactiviteiten. *
Lees verderStuur onderzoekSemicorex MOCVD 3x2'' Susceptor, ontwikkeld door Semicorex, vertegenwoordigt een toppunt van innovatie en technische uitmuntendheid, specifiek afgestemd op de ingewikkelde eisen van hedendaagse halfgeleiderproductieprocessen.**
Lees verderStuur onderzoekSemicorex SiC Coating Ring is een cruciaal onderdeel in de veeleisende omgeving van halfgeleider-epitaxieprocessen. Met onze vaste toewijding aan het leveren van producten van topkwaliteit tegen concurrerende prijzen, zijn we klaar om uw langetermijnpartner in China te worden.*
Lees verderStuur onderzoekDe toewijding van Semicorex aan kwaliteit en innovatie komt duidelijk tot uiting in het SiC MOCVD Cover Segment. Door betrouwbare, efficiënte en hoogwaardige SiC-epitaxie mogelijk te maken, speelt het een cruciale rol bij het bevorderen van de mogelijkheden van halfgeleiderapparaten van de volgende generatie.**
Lees verderStuur onderzoekSemicorex SiC MOCVD Inner Segment is een essentieel verbruiksartikel voor metaal-organische chemische dampdepositie (MOCVD)-systemen die worden gebruikt bij de productie van epitaxiale siliciumcarbide (SiC) wafers. Het is precies ontworpen om de veeleisende omstandigheden van SiC-epitaxie te weerstaan, waardoor optimale procesprestaties en hoogwaardige SiC-epilagen worden gegarandeerd.**
Lees verderStuur onderzoek