China CVD-oven fabrikanten, leveranciers, fabriek

CVD-ovens die worden gebruikt voor het chemische dampdepositieproces (CVD). Chemische dampafzetting is een proces waarbij een dunne film op een substraat wordt afgezet met behulp van een chemische reactie tussen verdampte precursorgassen en een verwarmd oppervlak.

CVD-ovens bestaan ​​doorgaans uit een vacuümkamer, een gastoevoersysteem, een verwarmingssysteem en een substraathouder. De vacuümkamer wordt gebruikt om lucht en andere gassen uit de afzettingsomgeving te verwijderen om te voorkomen dat onzuiverheden het afzettingsproces verstoren. Het gasafgiftesysteem levert de precursorgassen aan het substraatoppervlak waar ze reageren om de gewenste dunne film te vormen. Het verwarmingssysteem verwarmt het substraat tot de vereiste temperatuur om de reactie te laten plaatsvinden. De substraathouder wordt gebruikt om het substraat op zijn plaats te houden tijdens het depositieproces.

Bij het CVD-proces worden de precursorgassen in de vacuümkamer gebracht en verwarmd tot een temperatuur waarop ze ontleden en reageren om een ​​dunne film op het verwarmde substraat te vormen. De temperatuur en druk van de depositieomgeving worden zorgvuldig gecontroleerd om ervoor te zorgen dat de gewenste filmeigenschappen worden bereikt.

CVD-ovens worden veel gebruikt in de halfgeleiderindustrie om dunne films af te zetten voor de fabricage van micro-elektronische apparaten, zoals geïntegreerde schakelingen en zonnecellen. Ze worden ook gebruikt bij de productie van geavanceerde materialen, zoals coatings, optische vezels en supergeleiders.