U kunt er zeker van zijn dat u ICP Etching Carrier in onze fabriek koopt en wij bieden u de beste after-sales service en tijdige levering. Semicorex wafer susceptor is gemaakt van met siliciumcarbide gecoat grafiet met behulp van het chemische dampafzettingsproces (CVD). Dit materiaal bezit unieke eigenschappen, waaronder hoge temperatuur- en chemische bestendigheid, uitstekende slijtvastheid, hoge thermische geleidbaarheid en hoge sterkte en stijfheid. Deze eigenschappen maken het een aantrekkelijk materiaal voor diverse toepassingen bij hoge temperaturen, waaronder inductief gekoppelde plasma-etssystemen (ICP).
Wij bieden service op maat, helpen u te innoveren met componenten die langer meegaan, verkorten de cyclustijden en verbeteren de opbrengsten.
Semicorex Etching Wafer Carrier met CVD SIC-coating is een geavanceerde, krachtige oplossing op maat gemaakt voor het veeleisende halfgeleider-etsentoepassingen. De superieure thermische stabiliteit, chemische weerstand en mechanische duurzaamheid maken het een essentieel onderdeel van de moderne wafelfabricage, waardoor een hoge efficiëntie, betrouwbaarheid en kosteneffectiviteit voor semiconductorfabrikanten wereldwijd zorgt.*
Lees verderStuur onderzoekSemicorex SiC ICP-etsschijf bestaat niet alleen uit componenten; Het is een essentiële factor in de productie van geavanceerde halfgeleiders. Nu de halfgeleiderindustrie haar meedogenloze streven naar miniaturisatie en prestaties voortzet, zal de vraag naar geavanceerde materialen zoals SiC alleen maar toenemen. Het garandeert de precisie, betrouwbaarheid en prestaties die nodig zijn om onze technologiegedreven wereld van stroom te voorzien. Wij bij Semicorex zijn toegewijd aan de productie en levering van hoogwaardige SiC ICP-etsschijven die kwaliteit combineren met kostenefficiëntie.**
Lees verderStuur onderzoekSemicorex SiC Susceptor voor ICP Etch wordt vervaardigd met de nadruk op het handhaven van hoge normen van kwaliteit en consistentie. De robuuste productieprocessen die worden gebruikt om deze susceptors te maken, zorgen ervoor dat elke batch aan strenge prestatiecriteria voldoet en betrouwbare en consistente resultaten oplevert bij het etsen van halfgeleiders. Bovendien is Semicorex uitgerust om snelle leveringsschema's aan te bieden, wat cruciaal is om gelijke tred te houden met de snelle doorlooptijden van de halfgeleiderindustrie, en ervoor te zorgen dat aan de productietijdlijnen wordt voldaan zonder concessies te doen aan de kwaliteit. Wij bij Semicorex zijn toegewijd aan het produceren en leveren van hoogwaardige SiC Susceptor voor ICP Etch die kwaliteit combineert met kostenefficië......
Lees verderStuur onderzoekDe SiC-gecoate ICP-component van Semicorex is speciaal ontworpen voor waferbehandelingsprocessen bij hoge temperaturen, zoals epitaxie en MOCVD. Met een fijne SiC-kristalcoating bieden onze dragers superieure hittebestendigheid, gelijkmatige thermische uniformiteit en duurzame chemische bestendigheid.
Lees verderStuur onderzoekAls het gaat om waferbehandelingsprocessen zoals epitaxie en MOCVD, is de hoge temperatuur SiC-coating van Semicorex voor plasma-etskamers de beste keuze. Onze dragers bieden superieure hittebestendigheid, gelijkmatige thermische uniformiteit en duurzame chemische bestendigheid dankzij onze fijne SiC-kristalcoating.
Lees verderStuur onderzoekDe ICP-plasma-etsbak van Semicorex is speciaal ontworpen voor waferbehandelingsprocessen bij hoge temperaturen, zoals epitaxie en MOCVD. Met een stabiele oxidatieweerstand bij hoge temperaturen tot 1600 °C bieden onze dragers gelijkmatige thermische profielen en laminaire gasstroompatronen en voorkomen ze vervuiling of verspreiding van onzuiverheden.
Lees verderStuur onderzoek