China ICP-etsdrager fabrikanten, leveranciers, fabriek

U kunt er zeker van zijn dat u ICP Etching Carrier in onze fabriek koopt en wij bieden u de beste after-sales service en tijdige levering. Semicorex wafer susceptor is gemaakt van siliciumcarbide gecoat grafiet met behulp van het chemical vapour deposition (CVD) proces. Dit materiaal heeft unieke eigenschappen, waaronder hoge temperatuur- en chemische weerstand, uitstekende slijtvastheid, hoge thermische geleidbaarheid en hoge sterkte en stijfheid. Deze eigenschappen maken het een aantrekkelijk materiaal voor verschillende toepassingen bij hoge temperaturen, waaronder Inductively Coupled Plasma (ICP)-etssystemen.

We bieden service op maat, helpen u te innoveren met componenten die langer meegaan, cyclustijden verkorten en opbrengsten verbeteren.

View as

SiC-gecoate ICP-component

De SiC-gecoate ICP-component van Semicorex is speciaal ontworpen voor waferbehandelingsprocessen bij hoge temperatuur, zoals epitaxie en MOCVD. Met een fijne SiC-kristalcoating bieden onze dragers superieure hittebestendigheid, zelfs thermische uniformiteit en duurzame chemische weerstand.

Lees verder Stuur onderzoek

SiC-coating voor hoge temperaturen voor plasma-etskamers

Als het gaat om waferbehandelingsprocessen zoals epitaxie en MOCVD, is Semicorex's hoge-temperatuur SiC-coating voor plasma-etskamers de beste keuze. Onze dragers bieden superieure hittebestendigheid, zelfs thermische uniformiteit en duurzame chemische weerstand dankzij onze fijne SiC-kristalcoating.

Lees verder Stuur onderzoek

ICP-plasma-etsbak

De ICP-plasma-etsbak van Semicorex is speciaal ontworpen voor processen voor het hanteren van wafers bij hoge temperaturen, zoals epitaxie en MOCVD. Met een stabiele oxidatiebestendigheid bij hoge temperaturen tot 1600 °C, bieden onze dragers gelijkmatige thermische profielen, laminaire gasstroompatronen en voorkomen ze verontreiniging of verspreiding van onzuiverheden.

Lees verder Stuur onderzoek

ICP-plasma-etssysteem

De SiC-gecoate drager van Semicorex voor het ICP-plasma-etssysteem is een betrouwbare en kosteneffectieve oplossing voor waferverwerkingsprocessen bij hoge temperaturen, zoals epitaxie en MOCVD. Onze dragers zijn voorzien van een fijne SiC-kristalcoating die superieure hittebestendigheid, zelfs thermische uniformiteit en duurzame chemische weerstand biedt.

Lees verder Stuur onderzoek

Inductief gekoppeld plasma (ICP)

De met siliciumcarbide gecoate susceptor van Semicorex voor Inductively-Coupled Plasma (ICP) is speciaal ontworpen voor processen voor het hanteren van wafers bij hoge temperaturen, zoals epitaxie en MOCVD. Met een stabiele oxidatiebestendigheid bij hoge temperaturen tot 1600 °C zorgen onze dragers voor gelijkmatige thermische profielen, laminaire gasstroompatronen en voorkomen ze verontreiniging of verspreiding van onzuiverheden.

Lees verder Stuur onderzoek

ICP Ets Wafer Houder

De ICP-etswaferhouder van Semicorex is de perfecte oplossing voor waferbehandelingsprocessen bij hoge temperatuur, zoals epitaxie en MOCVD. Met een stabiele oxidatiebestendigheid bij hoge temperaturen tot 1600 °C zorgen onze dragers voor gelijkmatige thermische profielen, laminaire gasstroompatronen en voorkomen ze verontreiniging of verspreiding van onzuiverheden.

Lees verder Stuur onderzoek

<1 2 3 >

Semicorex produceert al vele jaren ICP-etsdrager en is een van de professionele ICP-etsdrager fabrikanten en leveranciers in China. Zodra u onze geavanceerde en duurzame producten koopt die bulkverpakking leveren, garanderen wij de grote hoeveelheid in snelle levering. Door de jaren heen hebben we klanten service op maat geboden. Klanten zijn tevreden met onze producten en uitstekende service. We kijken er oprecht naar uit om uw betrouwbare zakenpartner voor de lange termijn te worden! Welkom bij het kopen van producten van onze fabriek.