PSS-etsdrager (Patterned Sapphire Substrate) wordt gebruikt bij de vervaardiging van LED-apparaten. De PSS-etsdrager dient als substraat voor de groei van een dunne film galliumnitride (GaN) die de LED-structuur vormt en vervolgens het etsproces ervaart. Het vereist dus materiaal met een hoge hitte- en corrosiebestendigheid. Semicorex SiC-gecoate PSS-etsdrager, speciaal ontworpen voor deze veeleisende epitaxieapparatuurtoepassingen. De drager is bedekt met siliciumcarbide volgens de CVD-methode, heeft ook een hoge thermische geleidbaarheid en uitstekende warmteverdelingseigenschappen.