PSS (Patterned Sapphire Substrate) etsdrager wordt gebruikt bij de fabricage van LED-apparaten. De PSS-etsdrager dient als een substraat voor de groei van een dunne film van galliumnitride (GaN) die de LED-structuur vormt, waarna het etsproces wordt ervaren. Het vereist dus het materiaal met een hoge hitte- en corrosieweerstand. Semicorex SiC-gecoate PSS-etsdrager, speciaal ontworpen voor deze veeleisende epitaxie-apparatuurtoepassingen. De drager is gecoat met siliciumcarbide volgens de CVD-methode, heeft ook een hoge thermische geleidbaarheid en uitstekende warmteverdelingseigenschappen.
De etsdragerhouder van Semicorex voor PSS-etsen is ontworpen voor de meest veeleisende epitaxie-apparatuurtoepassingen. Onze ultrazuivere grafietdrager is bestand tegen ruwe omgevingen, hoge temperaturen en agressieve chemische reiniging. De met SiC gecoate drager heeft uitstekende warmteverdelingseigenschappen, een hoge thermische geleidbaarheid en is kosteneffectief. Onze producten worden veel gebruikt in veel Europese en Amerikaanse markten en we kijken ernaar uit om uw langetermijnpartner in China te worden.
Lees verderStuur onderzoekSemicorex' PSS Handling Carrier voor Wafer Transfer is ontworpen voor de meest veeleisende epitaxie-apparatuurtoepassingen. Onze ultrazuivere grafietdrager is bestand tegen ruwe omgevingen, hoge temperaturen en agressieve chemische reiniging. De met SiC gecoate drager heeft uitstekende warmteverdelingseigenschappen, een hoge thermische geleidbaarheid en is kosteneffectief. Onze producten worden veel gebruikt in veel Europese en Amerikaanse markten en we kijken ernaar uit om uw langetermijnpartner in China te worden.
Lees verderStuur onderzoekDe Silicon Etch Plate van Semicorex voor PSS-etstoepassingen is een hoogwaardige, ultrazuivere grafietdrager die speciaal is ontworpen voor epitaxiale groei en processen voor het hanteren van wafers. Onze drager is bestand tegen ruwe omgevingen, hoge temperaturen en agressieve chemische reiniging. De silicium-etsplaat voor PSS-etstoepassingen heeft uitstekende warmteverdelingseigenschappen, een hoge thermische geleidbaarheid en is kosteneffectief. Onze producten worden veel gebruikt in veel Europese en Amerikaanse markten en we kijken ernaar uit om uw langetermijnpartner in China te worden.
Lees verderStuur onderzoekDe PSS Etching Carrier Tray van Semicorex voor Wafer Processing is speciaal ontworpen voor de veeleisende toepassingen van epitaxie-apparatuur. Onze ultrazuivere grafietdrager is ideaal voor afzettingsfasen van dunne films zoals MOCVD, epitaxiale susceptors, pannenkoek- of satellietplatforms en verwerking van wafers, zoals etsen. De PSS Etching Carrier Tray voor Wafer Processing heeft een hoge hitte- en corrosiebestendigheid, uitstekende warmteverdelingseigenschappen en een hoge thermische geleidbaarheid. Onze producten zijn kostenbesparend en hebben een goed prijsvoordeel. We bedienen veel Europese en Amerikaanse markten en kijken ernaar uit om uw langdurige partner in China te worden.
Lees verderStuur onderzoekBij Semicorex hebben we de PSS Etching Carrier Tray voor LED speciaal ontworpen voor de veeleisende omgevingen die nodig zijn voor epitaxiale groei en processen voor het hanteren van wafers. Onze ultrazuivere grafietdrager is ideaal voor afzettingsfasen van dunne films zoals MOCVD, epitaxiale susceptors, pannenkoek- of satellietplatforms en verwerking van wafers, zoals etsen. De met SiC gecoate drager heeft een hoge hitte- en corrosieweerstand, uitstekende warmteverdelingseigenschappen en een hoge thermische geleidbaarheid. Onze PSS Etching Carrier Tray voor LED is voordelig en biedt een goed prijsvoordeel. We bedienen veel Europese en Amerikaanse markten en kijken ernaar uit om uw langdurige partner in China te worden.
Lees verderStuur onderzoekSemicorex PSS Etching Carrier Plate for Semiconductor is speciaal ontworpen voor omgevingen met hoge temperaturen en agressieve chemische reiniging die vereist zijn voor epitaxiale groei en processen voor het hanteren van wafers. Onze ultrazuivere PSS Etching Carrier Plate for Semiconductor is ontworpen om wafers te ondersteunen tijdens dunne-filmafzettingsfasen zoals MOCVD en epitaxie-susceptors, pannenkoek- of satellietplatforms. Onze SiC-gecoate drager heeft een hoge hitte- en corrosieweerstand, uitstekende warmteverdelingseigenschappen en een hoge thermische geleidbaarheid. We bieden onze klanten kosteneffectieve oplossingen en onze producten bestrijken veel Europese en Amerikaanse markten. Semicorex kijkt ernaar uit om uw langdurige partner in China te zijn.
Lees verderStuur onderzoek