China Specialiteit grafiet fabrikanten, leveranciers, fabriek

Speciaal grafiet is een soort kunstmatige grafiet die wordt verwerkt. Het is een belangrijk materiaal dat onmisbaar is in alle aspecten van halfgeleider en fotovoltaïsche productieproces, inclusief kristalgroei, ionenimplantatie, epitaxie, enz.

1. Siliciumcarbide (SIC) kristalgroei

Siliciumcarbide, als halfgeleidermateriaal van de derde generatie, wordt veel gebruikt in nieuwe energievoertuigen, 5G-communicatie en andere velden. In het 6-inch en 8-inch SIC-kristalgroeiproces wordt isostatisch grafiet voornamelijk gebruikt om de volgende belangrijke componenten te produceren:

Grafiet Crucible: dit kan worden gebruikt om SIC -poederinvoer te synthetiseren en ook te helpen bij kristalgroei bij hoge temperaturen. De hoge zuiverheid, de weerstand van hoge temperatuur en de thermische schokweerstand zorgen voor een stabiele kristalgroeiomgeving.

Grafietverwarming: dit biedt een uniforme warmteverdeling, die zorgt voor hoogwaardige SIC-kristalgroei.

Isolatiebuis: dit handhaaft de temperatuuruniformiteit in de kristalgroeikoven en vermindert warmteverlies.

2. Ionimplantatie

Ionimplantatie is een belangrijk proces in de productie van halfgeleiders. Isostatisch grafiet wordt voornamelijk gebruikt om de volgende componenten in ionenimplanters te produceren:

Graphite Getter: dit absorbeert onzuiverheidsionen in de ionenstraal, waardoor ionenzuiverheid wordt gewaarborgd.

Grafiet focusring: dit richt zich op de ionenstraal en verbetert de nauwkeurigheid en efficiëntie van ionenimplantaten. Grafietsubstraatbladen: gebruikt om siliciumwafels te ondersteunen en stabiliteit en consistentie te behouden tijdens ionenimplantatie.

3. Epitaxy -proces

Het Epitaxy -proces is een cruciale stap in de productie van halfgeleiderapparaten. Isostatisch geperst grafiet wordt voornamelijk gebruikt om de volgende componenten in epitaxie -ovens te produceren:

Grafietbakken en susceptoren: gebruikt om siliciumwafels te ondersteunen, waardoor stabiele ondersteuning en uniforme warmtegeleiding biedt tijdens het epitaxy -proces.

4. Andere toepassingen voor productie van halfgeleiders

Isostatisch geperst grafiet wordt ook veel gebruikt in de volgende halfgeleiderproductietoepassingen:

Etsenproces: gebruikt om grafietelektroden en beschermende componenten voor etsen te produceren. De corrosieweerstand en hoge zuiverheid zorgen voor stabiliteit en precisie in het etsenproces.

Chemische dampafzetting (CVD): gebruikt om grafietbakken en kachels in CVD -ovens te produceren. De hoge thermische geleidbaarheid en weerstand op hoge temperatuur zorgen voor uniforme dunne filmafzetting.

Verpakkingstests: gebruikt om testarmaturen en dragervakjes te produceren. De hoge precisie en lage besmetting zorgen voor nauwkeurige testresultaten.

Voordelen van grafietonderdelen

Hoge zuiverheid:

Met behulp van hoge zuiverheid isostatisch geperst grafietmateriaal met een extreem lage onzuiverheidsgehalte, voldoet het aan de strenge materiaalzuiverheidseisen van de productie van halfgeleiders. De eigen zuiveringsoven van het bedrijf kan grafiet zuiveren tot onder 5 ppm.

Hoge precisie:

Met geavanceerde verwerkingsapparatuur en volwassen verwerkingstechnologie zorgt het ervoor dat de dimensionale nauwkeurigheid en vorm- en positietoleranties van het product het micronniveau bereiken.

Hoge prestaties:

Het product heeft een uitstekende weerstand van hoge temperaturen, corrosieweerstand, stralingsweerstand, hoge thermische geleidbaarheid en andere eigenschappen en voldoet aan de verschillende harde werkomstandigheden van de productie van halfgeleiders.

Aangepaste service:

Aangepaste productontwerp- en verwerkingsdiensten kunnen worden verstrekt volgens de behoeften van de klant om aan de behoeften van verschillende toepassingsscenario's te voldoen.

Soorten grafietproducten

(1) Isostatisch grafiet
Isostatische grafietproducten worden geproduceerd door koude isostatische drukken. In vergelijking met andere vormmethoden hebben de smeltkroes die door dit proces worden geproduceerd een uitstekende stabiliteit. De grafietproducten die nodig zijn voor SIC -enkele kristallen zijn allemaal groot in grootte, wat zal leiden tot ongelijke zuiverheid op het oppervlak en binnen de grafietproducten, die niet kunnen voldoen aan de gebruikseisen. Om te voldoen aan de diepe zuiveringsvereisten van grote grafietproducten die nodig zijn voor SiC-enkele kristallen, moet een uniek thermochemisch pulszuiveringsproces met hoge temperatuur worden aangenomen om een ​​diepe en uniforme zuivering van grote of speciaal gevormde grafietproducten te bereiken, zodat de zuiverheid van het productoppervlak en de kern kan voldoen aan de gebruikseisen.

(2) poreus grafiet
Poreus grafiet is een type grafiet met hoge porositeit en lage dichtheid. In het SIC -kristalgroeiproces speelt poreus grafiet een belangrijke rol bij het verbeteren van de uniformiteit van de massaoverdracht, waardoor de optreden van faseverandering wordt verminderd en de kristalvorm wordt verbeterd.
Het gebruik van poreus grafiet verbetert de temperatuur- en temperatuuruniformiteit van het grondstofgebied, verhoogt het axiale temperatuurverschil in de smeltkroes en heeft ook een bepaald effect op het verzwakken van de herkristallisatie van het grondstofoppervlak; In de groeikamer verbetert poreus grafiet de stabiliteit van de materiaalstroom gedurende het groeiproces, verhoogt de C/Si -verhouding van het groeigebied, helpt de kans op faseverandering te verminderen, en tegelijkertijd speelt poreus grafiet ook een rol bij het verbeteren van de kristalinterface.

(3) vilt
Zacht vilt en hard vonden beide de rol van belangrijke thermische isolatiematerialen in SIC -kristalgroei en epitaxiale links.

(4) Grafietfolie
Grafietpapier is een functioneel materiaal dat is gemaakt van koolstofarme vlok grafiet door chemische behandeling en rollen op hoge temperatuur. Het heeft een hoge thermische geleidbaarheid, elektrische geleidbaarheid, flexibiliteit en corrosieweerstand.

(5) Composietmaterialen
Termisch veld koolstofarbonus is een van de kernverbruiksartikelen in fotovoltaïsche productie van enkele kristaloven.

Semicorex -productie

Semicorex maak grafiet met kleine batch, aangepaste productiemethoden. De productie van kleine batch maakt de producten controleerbaarder. Het hele proces wordt bestuurd door programmeerbare logische controllers (PLC's), de gedetailleerde procesgegevens werden geregistreerd, waardoor volledige traceerbaarheid van de levenscyclus mogelijk is.

Tijdens het gehele braadproces werd de consistentie bereikt in weerstand op verschillende locaties en handhaafde de strakke temperatuurregeling. Dit zorgt voor de homogeniteit en betrouwbaarheid van de grafietmaterialen.

Semicorex maakt gebruik van volledig isostatische persentechnologie, die verschilt van andere leveranciers; Het betekent dat het grafiet zelf ultra -uniform is en bijzonder belangrijk is gebleken in epitaxiale processen. De uitgebreide materiaaluniformiteitstests werden uitgevoerd, inclusief dichtheid, weerstand, hardheid, buigsterkte en sterkte over verschillende monsters.