Een SiC-douchekop (siliciumcarbide) is een gespecialiseerd onderdeel dat wordt gebruikt in verschillende industriële processen, met name in de halfgeleiderindustrie. Het is ontworpen om procesgassen gelijkmatig en nauwkeurig te verdelen en af te leveren tijdens chemische dampafzetting (CVD) en epitaxiale groeiprocessen.
De douchekop heeft de vorm van een schijf of plaat met meerdere gelijkmatig verdeelde gaten of sproeiers op het oppervlak. Deze gaten dienen als uitlaat voor de procesgassen, waardoor deze in de proceskamer of reactiekamer kunnen worden geïnjecteerd. De grootte, vorm en verdeling van de gaten kunnen variëren, afhankelijk van de specifieke toepassing en procesvereisten.
Een van de belangrijkste voordelen van het gebruik van een SiC-douchekop is de uitstekende thermische geleidbaarheid. Deze eigenschap maakt een efficiënte warmteoverdracht en een uniforme temperatuurverdeling over het oppervlak van de douchekop mogelijk, waardoor hotspots worden voorkomen en consistente procesomstandigheden worden gegarandeerd. De verbeterde thermische geleidbaarheid maakt ook een snelle koeling van de douchekop na het proces mogelijk, waardoor de uitvaltijd wordt geminimaliseerd en de algehele productiviteit wordt verhoogd.
SiC-douchekoppen zijn zeer duurzaam en bestand tegen slijtage, zelfs bij langdurige blootstelling aan corrosieve gassen en hoge temperaturen. Deze lange levensduur vertaalt zich in langere onderhoudsintervallen en minder uitval van apparatuur, wat resulteert in kostenbesparingen en verbeterde procesbetrouwbaarheid.
Naast hun robuustheid bieden SiC-douchekoppen uitstekende gasdistributiemogelijkheden. De nauwkeurig ontworpen gatenpatronen en configuraties zorgen voor een uniforme gasstroom en -verdeling over het substraatoppervlak, waardoor een consistente filmafzetting wordt bevorderd en de prestaties van het apparaat worden verbeterd. De uniforme gasverdeling helpt ook variaties in filmdikte, samenstelling en andere kritische parameters te minimaliseren, wat bijdraagt aan een verbeterde procescontrole en opbrengst.
Semicorex biedt een gesinterde siliciumcarbide halfgeleider douchekop met lage weerstand. We hebben de mogelijkheid om geavanceerde keramische materialen op maat te engineeren en te leveren met behulp van een verscheidenheid aan unieke mogelijkheden.
De metalen douchekop, bekend als een gasverdeelplaat of gasdouchekop, is een cruciaal onderdeel dat op grote schaal wordt gebruikt in de productieprocessen van halfgeleiders. De primaire functie is het gelijkmatig verdelen van gassen in een reactiekamer, zodat halfgeleidermaterialen uniform in contact komen met het proces gassen.**
Lees verderStuur onderzoek