TaC-coating

TaC-keramiek heeft een smeltpunt tot wel 3880°C, een hoge hardheid (Mohs-hardheid 9-10), een grote thermische geleidbaarheid (22 W·m^-1·K⁻¹), grote buigsterkte (340-400 MPa) en kleine thermische uitzettingscoëfficiënt (6,6 x 10^-6K-1), en vertonen uitstekende thermochemische stabiliteit en uitstekende fysische eigenschappen, dus TaC-coatings worden veel gebruikt in thermische bescherming in de lucht- en ruimtevaart, en grafiet- en C/C-composieten hebben goede chemische compatibiliteit en mechanische compatibiliteit. ), en vertonen uitstekende thermochemische stabiliteit en uitstekende fysische eigenschappen, en grafiet en C/C-composieten hebben goede chemische compatibiliteit en mechanische compatibiliteit, dus TaC-coatings worden veel gebruikt in thermische bescherming in de lucht- en ruimtevaart, monokristallijne groei, energie en elektronica, en medische apparaten, etc. TaC-gecoat grafiet heeft een betere chemische bestendigheid dan kaal grafiet of SiC-gecoat grafiet en kan stabiel worden gebruikt bij een hoge temperatuur van 2600°. 2600 ° hoge temperatuurstabiliteit, en veel metalen elementen reageren niet, is de derde generatie halfgeleider monokristallijne groei- en wafer-etsscenario's met de beste prestaties van de coating, kan het proces van temperatuur- en onzuiverheidscontrole, de voorbereiding van hoge -kwaliteit siliciumcarbidewafels en aanverwante epitaxiale wafels. Het is vooral geschikt voor MOCVD-apparatuur om GaN- of AlN-eenkristallen te laten groeien en PVT-apparatuur om SiC-eenkristallen te laten groeien, en de kwaliteit van de gegroeide eenkristallen is aanzienlijk verbeterd.

Volgens de onderzoeksresultaten isTaC-coating kan fungeren als een beschermings- en isolatielaag om de levensduur van grafietcomponenten te verlengen, de radiale temperatuuruniformiteit te verbeteren, de SiC-sublimatie-stoichiometrie te behouden, de migratie van onzuiverheden te onderdrukken en het energieverbruik te verminderen. Uiteindelijk wordt verwacht dat een met TaC gecoate grafietkroezenset de SiC PVT-procescontrole en productkwaliteit zal verbeteren.