Wat is een MOCVD-systeem?

MOCVD, bekend als Metal-Organic Chemical Vapour Deposition (MOCVD), is een techniek om dunne halfgeleiderfilms op een substraat te laten groeien. Met MOCVD kunnen met grote precisie vele nanolagen worden aangebracht, elk met een gecontroleerde dikte, om materialen te vormen met specifieke optische en elektrische eigenschappen.

Een MOCVD-systeem is een soort chemisch dampafzettingssysteem (CVD) dat gebruik maakt van organische metaalvoorlopers om dunne materiaalfilms op een substraat af te zetten. Het systeem bestaat uit een reactorvat, een gastoevoersysteem, een substraathouder en een temperatuurregelsysteem. De metaal-organische voorlopers worden samen met een draaggas in het reactorvat gebracht en de temperatuur wordt zorgvuldig gecontroleerd om de groei van een hoogwaardige dunne film te verzekeren.

Het gebruik van MOCVD heeft verschillende voordelen ten opzichte van andere depositietechnieken. Een voordeel is dat het de depositie van complexe materialen mogelijk maakt met nauwkeurige controle over de dikte en samenstelling van de dunne films. Dit is vooral belangrijk voor de productie van hoogwaardige halfgeleiderapparaten, waarbij de materiaaleigenschappen van de dunne films een aanzienlijke invloed kunnen hebben op de prestaties van het apparaat.

Een ander voordeel van MOCVD is dat het kan worden gebruikt om dunne films af te zetten op verschillende substraten, waaronder silicium, saffier en galliumarsenide. Deze flexibiliteit maakt het tot een essentieel proces bij de productie van een breed scala aan halfgeleiderapparaten, van computerchips tot leds.

MOCVD-systemen worden veel gebruikt in de halfgeleiderindustrie en hebben een belangrijke rol gespeeld bij de ontwikkeling van veel geavanceerde technologieën. MOCVD is bijvoorbeeld gebruikt om zeer efficiënte leds te produceren voor verlichtings- en displaytoepassingen, evenals hoogwaardige zonnecellen voor fotovoltaïsche toepassingen.