Aluminiumoxide keramische arm

Semicorex aluminiumoxide keramische arm is een ontworpen component die is ontwikkeld volgens de hoogste specificaties voor halfgeleidertoepassingen. Gemaakt van aluminiumoxide hoogsturen (Al₂o₃), is het een robotarm met een unieke combinatie van mechanische sterkte, thermische stabiliteit en chemische weerstand. De arm is niet alleen ontworpen om alleen te worden gebruikt voor het afhandelen van wafers, maar moet ook procesondersteuning bieden in geavanceerde fabricagesites. Het moet er ook voor zorgen dat wafels worden overgedragen, gepositioneerd en verwerkt zonder verontreiniging of schade; Verbetering van de opbrengsten en betrouwbaarheid van het proces.

Aluminiumoxideis een van de technische keramiek die het breedste gebruik vindt in het technische keramische veld. Alumina staat bekend om zijn hardheid, slijtvastheid en stabiliteit in agressieve omgevingen. Voor de doelstellingen van de keramische arm om het hanteren van wafers te beheren zonder verontreiniging te introduceren, kan het de eigenschappen van aluminiumoxide exploiteren en een veel hoger niveau van weerstand tegen slijtage leveren als gevolg van de hoge zuiverheid en deeltjesgrootte; Daarom zal het geen overmatige deeltjes genereren tijdens zijn herhaalde bewegingen, hetzij met wafels of met halfgeleidersubstraten van een andere soort.  De dichtheid en lage porositeit dat het ook herbergt, beperken ook het potentieel van deeltjes die loskomen, en zorgt ervoor dat het voldoet aan de ultra-schone vereisten van fabs van halfgeleiderontwikkeling zonder afbreuk te doen aan de netheid die nodig is voor het hanteren van submicronapparaten.

AluminiumoxideBezit uitzonderlijke thermische stabiliteit naast de mechanische sterkte. De keramische arm van aluminiumoxide kan extreme procestemperaturen doorstaan ​​zonder kromtrekken, kraken of kracht verliezen. Deze eigenschap maakt het ideaal voor opname in elke processtap die blootstelling aan verhoogde temperaturen omvat, zoals diffusie, oxidatie of gegloeide stappen. Wafels zullen een verbeterde betrouwbaarheid hebben voor overdracht in een uitdagende procesomgeving omdat het de mechanische integriteit behoudt onder thermische fietsen.

Chemische weerstand is een ander fundamenteel positief van de keramische arm van aluminiumoxide. In de productie van halfgeleiders worden behandelingen vaak uitgevoerd op wafels met sterke zuren, alkalisten en andere agressieve chemicaliën. Hoewel metalen componenten kunnen corroderen of uitloog onzuiverheden, is aluminiumoxide chemisch inert, wat de integriteit van zowel de arm als de wafels die het behandelt beschermt. Daarom verlengt de inertigheid de levensduur van de component, terwijl de mogelijkheid van besmetting wordt verminderd tijdens kritieke processtappen zoals natte reiniging of chemische dampafzetting.

De aluminiumoxide keramische arm is ontworpen met een focus op compatibiliteit en precisie. Elke arm wordt gemaakt in strakke dimensionale toleranties, waardoor een nauwkeurige waferuitlijning en beweging en compatibiliteit wordt gewaarborgd met geautomatiseerde waferafhandelingsapparatuur en robotsystemen. De gladde, gepolijste oppervlakteafwerking heeft een lage wrijvingsinterface met de wafel die de kans vermindert om de wafer te krabben, wat essentieel is voor wafelintegriteit/reinheid van het milieu en de verlaging van het defectsnelheid. Deze ontwikkelde toleranties zorgen ervoor dat de arm vrij werkt in een snelle doorvoeromgeving met hoge doorvoer en zorgt voor zowel menselijke als volledig geautomatiseerde halfgeleiderworkflows voor de arm.

De keramische arm van aluminiumoxide reikt verder dan alleen chemische en mechanische prestaties en impact op de bedrijfsefficiëntie en kostenbesparingen op meerdere niveaus. De bewezen duurzame aard van keramiek stelt de arm in staat om samengestelde materialen zoals kunststoffen of aluminium te overtreffen in termen van ontwerplongevity onder repetitieve mechanische belasting, en vermindert daarom de hoeveelheid operationele downtime en/of vervangende kosten. De mogelijkheid om harde omgevingen te weerstaan ​​omvat de reinheid van het milieu, terwijl ook minder productie -onderbrekingen worden geproduceerd, wat leidt tot verbeterde consistente waferproductie, d.w.z. opbrengst en uiteindelijk minder schroot, wat leidt tot een hogere ROI (rendement op investering) voor fabrikanten van halfgeleiders.

De opties voor het gebruik van deAluminiumair keramiekARM voor halfgeleiderprocessen zijn vrijwel eindeloos - van bewegende wafels tussen natte banken, diffusiegeonderen en depositiekamers tot inspecterende en metrologiehulpmiddelen met behulp van substraten. Door de veelzijdigheid van dit product kan het niet alleen worden gebruikt voor het afhandelen van wafers, maar ook verdere automatiseringssituaties waar nauwkeurigheid, netheid en betrouwbaarheid vereist zijn, zijn ook mogelijk. De halfgeleiderindustrie beweegt onverbiddelijk naar kleinere knooppunten en verhoogde complexiteit binnen de fabricage van het apparaat, en omdat de industrie nog steeds beter omgaan met oplossingen die betrouwbaar en niet-contaminerend zijn, creëert de keramische robotarm een ​​duidelijk pad vooruit.