Het Fused Quartz-voetstuk is speciaal ontworpen voor gebruik bij Atomic Layer Deposition (ALD), Low-Pressure Chemical Vapour Deposition (LPCVD) en diffusieprocessen, waardoor een uniforme afzetting van dunne films op waferoppervlakken wordt gegarandeerd.**
Bij de vervaardiging van halfgeleiders dient het Fused Quartz-voetstuk als steunstructuur voor de kwartsboot, die de wafers vasthoudt. Door een constante temperatuur te handhaven, wordt een uniforme dunnefilmafzetting bereikt, een kritische factor voor de prestaties en betrouwbaarheid van halfgeleiderapparaten. Het voetstuk zorgt ervoor dat de thermische en lichtverdeling binnen de proceskamer gelijkmatig is, waardoor de algehele kwaliteit van het depositieproces wordt verbeterd.
Voordelen van gesmolten kwartsmateriaal
1. Weerstand op hoge temperatuur
Het Fused Quartz-voetstuk heeft een verwekingspunt van ongeveer 1730°C, waardoor het bestand is tegen langdurig gebruik bij temperaturen van 1100°C tot 1250°C. Bovendien is het bestand tegen kortstondige blootstelling aan temperaturen tot wel 1450°C.
2. Corrosiebestendigheid
Het Fused Quartz-voetstuk is chemisch inert voor de meeste zuren, met uitzondering van waterstoffluoride. De zuurbestendigheid overtreft die van keramiek 30 keer en die van roestvrij staal 150 keer. Bij verhoogde temperaturen kan geen enkel ander materiaal de chemische stabiliteit van gesmolten kwarts evenaren, waardoor het een ideale keuze is voor zware chemische omgevingen.
3. Thermische stabiliteit
Een van de opvallende kenmerken van het Fused Quartz-voetstuk is de minimale thermische uitzettingscoëfficiënt. Dankzij deze eigenschap is het bestand tegen ernstige temperatuurschommelingen zonder te barsten. Het kan bijvoorbeeld snel worden verwarmd tot 1100 °C en vervolgens worden ondergedompeld in water van kamertemperatuur zonder schade op te lopen – een essentieel kenmerk voor productieprocessen onder hoge spanning.
Productieproces
Het productieproces voor het Fused Quartz-voetstuk wordt zorgvuldig gecontroleerd om de hoogste kwaliteitsnormen te garanderen. De sokkels worden geproduceerd via thermovorm- en lasprocessen in cleanroomomgevingen van klasse 10.000 of hoger. Nareiniging met ultrapuur water (18 MΩ)garandeert verder de zuiverheid en prestaties van het product. Elk Fused Quartz-voetstuk ondergaat een strenge inspectie, reiniging en verpakking in een cleanroom van klasse 1.000 of hoger om te voldoen aan de strenge eisen van de fabricage van halfgeleiders.
Zeer zuiver ondoorzichtig kwartsmateriaal
Om warmte en licht effectief te blokkeren, maakt het Fused Quartz-voetstuk gebruik van zeer zuiver, ondoorzichtig kwartsmateriaal. De unieke eigenschappen van dit materiaal verbeteren het vermogen van het voetstuk om een stabiele en uniforme temperatuur in de proceskamer te handhaven, waardoor de consistente kwaliteit van dunnefilmafzetting op wafers wordt gegarandeerd.
Breed scala aan toepassingen
De uitzonderlijke eigenschappen van het Fused Quartz Pedestal maken het geschikt voor uiteenlopende toepassingen binnen de halfgeleiderindustrie. Bij ALD-processen ondersteunt het de nauwkeurige controle van dunnefilmgroei op atomair niveau, essentieel voor de productie van geavanceerde halfgeleiderapparaten. Tijdens LPCVD-processen dragen de thermische stabiliteit en het lichtblokkerende vermogen van het voetstuk bij aan een uniforme filmafzetting, waardoor de prestaties en het rendement van het apparaat worden verbeterd.
Bij diffusieprocessen zorgen de hoge temperatuurbestendigheid en chemische inertheid van het Fused Quartz-voetstuk voor een betrouwbare en consistente dotering van halfgeleidermaterialen. Deze processen zijn van cruciaal belang voor het definiëren van de elektrische eigenschappen van halfgeleiderapparaten, en het gebruik van hoogwaardige materialen zoals gesmolten kwarts is essentieel voor het bereiken van optimale resultaten.