Graphite smeltkroes

Semicorex -grafietcrosis zijn cruciale componenten in het productieproces van het halfgeleider, met name tijdens de kristalgroeifase. Deze krachtige containers zijn ontworpen om de extreme omstandigheden te weerstaan die nodig zijn om silicium met een hoog zuivere silicium of samengestelde halfgeleiderkristallen te produceren via methoden zoals het Czochralski (CZ) -proces of de Float Zone (FZ) -techniek.

Een belangrijke functie van Grapite-smeltkroes is bestand tegen extreem hoge temperaturen, meestal boven 2000 ° C, waar halfgeleiderkanalen van de derde generatie zoals siliciumcarbide en galliumnitride vaak worden gesynthetiseerd. Gruisjes gemaakt van grafiet met veel zuiverheid vertonen uitstekende weerstand tegen hoge temperaturen die hun fysische en chemische toestanden op dergelijke extreme niveaus behouden zonder enige vorm van ontleding of zelfs metamorfose. Goede thermische geleiding door grafiet cruces betekent dat ze niet alleen warmte uniform zullen leiden, maar ook een stabiel temperatuurveld opzetten. Dit komt cruciaal in het spel tijdens de smelten- en kristallisatieprocessen, omdat uniforme temperatuurverdeling groeimateriaal onder min of meer equivalente omstandigheden mogelijk maakt, waardoor kristaldefecten worden verminderd en hoogwaardige halfgeleiderkristallen mogelijk is.

In siliciumcarbide of galliumnitride kristalgroeiprocessen (zoals dampfase epitaxie CVD of fysiek damptransport PVT), worden grafiet -smeltkroes gebruikt om grondstoffen vast te houden en een gecontroleerde groeiomgeving te bieden. De chemische inertie van de smeltkroes zorgt ervoor dat het niet chemisch reageert met het halfgeleidermateriaal bij hoge temperaturen, waardoor de hoge zuiverheid van het materiaal wordt gehandhaafd. Tegelijkertijd helpt de goede thermische geleidbaarheid van de Graphite Crucible om een uniforme temperatuurgradiënt te vormen, waardoor ideale omstandigheden worden geboden voor kristalgroei en het verminderen van onzuiverheden en structurele defecten.

De chemische inertie van grafiet crinibles is een belangrijk kenmerk bij de zuivering van halfgeleidermaterialen. Het grafietmateriaal met hoge zuiverheid kan externe vervuiling isoleren en voorkomen dat onzuiverheden het gesmolten halfgeleidermateriaal betreden. Het oppervlak van het grafiet -smeltkroes kan ook worden gecoat (zoals siliciumcarbide -coating) om de oxidatieresistentie en corrosieweerstand ervan te verbeteren, waardoor een hoge zuiverheid en hoge stabiliteit van het productieproces verder wordt gewaarborgd.