Wat is aln -verwarming

Aluminium nitride (ALN) keramische verwarmingVoor halfgeleider is een apparaat dat wordt gebruikt om halfgeleidermaterialen te verwarmen. Het is voornamelijk gemaakt van aluminium nitride keramisch materiaal, heeft een uitstekende thermische geleidbaarheid en hoge temperatuurweerstand en kan stabiel werken bij hoge temperaturen. De Aln -verwarming gebruikt meestal een weerstandsdraad als een verwarmingselement. Door de weerstandsdraad te bekrachtigen om op te warmen, wordt de warmte overgebracht naar het oppervlak van de verwarming om het halfgeleidermateriaal te verwarmen. Aln -verwarming voor halfgeleider speelt een belangrijke rol in het productieproces van het halfgeleider en kan worden gebruikt in processen zoals kristalgroei, gloeien en bakken. De wereldwijde Aln-verwarmingsmarkt voor halfgeleiders bereikte US $ 535,05 miljoen in 2022, een stijging van 7,13%op jaarbasis. Verwacht wordt dat de marktomvang US $ 848,21 miljoen zal bereiken in 2029, met een samengestelde groeipercentage (CAGR) van 6,72% van 2023 tot 2029.

Technische problemen bij de verwerkingAlnverwarming

1. Tijdens de verwerking van de Aln -verwarming is het gemakkelijk om te breken en in te storten vanwege veranderingen in de interne spanning van het materiaal, waardoor de gekwalificeerde snelheid van het eindproduct wordt beïnvloed. De productie van aluminium nitride keramische materialen is niet eenvoudig en de lage opbrengstsnelheid van Aln -verwarming is ook een van de belangrijke redenen voor de hoge prijs van aluminium nitride keramische verwarmingsplaten.

2. Het probleem van aluminium nitride keramische materialen zelf. Omdat in de aluminium nitride keramische materiaalproductie -industrie de structuur van het materiaal zelf dienovereenkomstig zal veranderen onder verschillende temperatuur- en omgevingscondities. De productie van aluminium nitride keramische materialen zelf is een relatief moeilijke taak. De lage kwaliteit van het materiaal is ook een belangrijke reden voor de laag gekwalificeerde snelheid van Aln -verwarming.

Factoren die de thermische geleidbaarheid beïnvloeden

De belangrijkste factoren die de thermische geleidbaarheid van aluminiumnitride -keramiek beïnvloeden, zijn roosterdichtheid, zuurstofgehalte, poederzuiverheid, microstructuur, enz., Die de thermische geleidbaarheid van aluminiumnitride -keramiek zullen beïnvloeden.

Dichtheid van rooster

Volgens de thermische geleidbaarheid van aluminiumnitride-keramische materialen, zal de aanwezigheid van een groot aantal poriën in monsters met lage dichtheid de verstrooiing van fononen beïnvloeden, hun gemiddelde vrije pad verminderen en dus de thermische geleidbaarheid van aluminiumnitride-keramiek verminderen. Tegelijkertijd voldoen de mechanische eigenschappen van monsters met lage dichtheid mogelijk niet aan de relevante toepassingsvereisten. Daarom is hoge dichtheid de voorwaarde voor aluminium nitride -keramiek om een ​​hoge thermische geleidbaarheid te hebben.

Zuurstofgehalte en onzuiverheden

Voor aluminium nitride -keramiek, vanwege de sterke affiniteit voor zuurstof, zijn zuurstofonzuiverheden gemakkelijk te diffunderen in het Aln -rooster tijdens het sinterproces, dat direct gerelateerd is aan een verscheidenheid aan defecten en de belangrijkste bron van invloed is op de thermische geleidbaarheid van aluminiumnitride. Bij de verstrooiing van fonons-defecten wordt de hoofdrol gespeeld door de aanwezigheid van zuurstof van onzuiverheid en aluminiumoxide. Omdat aluminiumnitride gemakkelijk te hydrolyseren en te oxideren is, wordt een laag aluminiumoxidefilm op het oppervlak gevormd en lost aluminiumoxide op in het aluminiumnitride -rooster om aluminium vacatures te produceren.

Neem contact op met telefoon # +86-13567891907

E -mail: sales@semicorex.com