- English
- Español
- Português
- русский
- Français
- 日本語
- Deutsch
- tiếng Việt
- Italiano
- Nederlands
- ภาษาไทย
- Polski
- 한국어
- Svenska
- magyar
- Malay
- বাংলা ভাষার
- Dansk
- Suomi
- हिन्दी
- Pilipino
- Türkçe
- Gaeilge
- العربية
- Indonesia
- Norsk
- تمل
- český
- ελληνικά
- український
- Javanese
- فارسی
- தமிழ்
- తెలుగు
- नेपाली
- Burmese
- български
- ລາວ
- Latine
- Қазақша
- Euskal
- Azərbaycan
- Slovenský jazyk
- Македонски
- Lietuvos
- Eesti Keel
- Română
- Slovenski
- मराठी
- Srpski језик
Nieuws uit de sector
Waarom zijn CVD SiC-coatings een must voor MOCVD-grafietsusceptors?
Bij de productie van LED-chips fungeert MOCVD-epitaxie als het kernproces dat de lichtefficiëntie bepaalt. Tijdens de productie werken grafietsusceptoren met saffier- of siliciumsubstraten onder herhaalde thermische cycli bij temperaturen dichtbij 1.000 ° C in corrosieve atmosferen. Dienovereenkomst......
Lees verder
Zijn siliciumcarbide cantilever-peddels de ultieme oplossing voor halfgeleiderverwerking bij hoge temperaturen?
Terwijl de productie van halfgeleiders blijft evolueren in de richting van grotere wafelformaten, hogere verwerkingstemperaturen en strengere vereisten voor contaminatiecontrole, zijn siliciumcarbide cantileverpaddles een essentieel onderdeel geworden in geavanceerde thermische verwerkingssystemen. ......
Lees verder
Kerntoepassingen van keramische componenten van aluminiumoxide in de halfgeleider
Als toonaangevend geavanceerd keramiek voor halfgeleidertoepassingen biedt aluminiumoxide-keramiek een optimaal evenwicht tussen kosten, bewerkbaarheid en algehele prestaties. Met hun hoge hardheid, uitstekende isolatie, uitstekende corrosieweerstand en lage thermische uitzetting voldoen ze volledig......
Lees verder
NVIDIA Rubin GPU's schakelen volledig over op grafeen thermische pads
In mei 2026 rondde NVIDIA zijn besluit af om vloeibaar metaal in de standaard Vera Rubin (1800-2000W TDP) volledig achterwege te laten en over te schakelen op grafeenpads met hoge thermische geleidbaarheid voor massaproductie; de Ultra high-end versie (2500-2850W) behoudt de extreme oplossing van vl......
Lees verder
Waarom worden poreuze aluminiumoxide klauwplaten de voorkeurskeuze voor de productie van precisiehalfgeleiders?
De halfgeleiderindustrie blijft hogere precisie, schonere verwerkingsomgevingen en grotere productie-efficiëntie eisen. Naarmate de afmetingen van de wafels toenemen en de procestoleranties steeds strenger worden, hebben traditionele methoden voor het vasthouden van wafels vaak moeite om aan de mode......
Lees verder
Halfgeleider-etsprocestechnologie
Etsen, of etsen, is een cruciale stap in de productie van halfgeleiders, IC-productie van micro-elektronica en micro-/nano-productieprocessen. Het is een primair patroonvormingsproces dat verband houdt met fotolithografie. In engere zin is etsen in wezen fotolithografisch etsen, waarbij fotoresist e......
Lees verder
