- English
- Español
- Português
- русский
- Français
- 日本語
- Deutsch
- tiếng Việt
- Italiano
- Nederlands
- ภาษาไทย
- Polski
- 한국어
- Svenska
- magyar
- Malay
- বাংলা ভাষার
- Dansk
- Suomi
- हिन्दी
- Pilipino
- Türkçe
- Gaeilge
- العربية
- Indonesia
- Norsk
- تمل
- český
- ελληνικά
- український
- Javanese
- فارسی
- தமிழ்
- తెలుగు
- नेपाली
- Burmese
- български
- ລາວ
- Latine
- Қазақша
- Euskal
- Azərbaycan
- Slovenský jazyk
- Македонски
- Lietuvos
- Eesti Keel
- Română
- Slovenski
- मराठी
- Srpski језик
Nieuws uit de sector
Redenen voor de kloof tussen praktische en theoretische thermische geleidbaarheid van siliciumnitride-keramiek
Siliciumnitride (Si₃N₄) is een structureel keramisch materiaal met een intrinsieke thermische geleidbaarheid van ongeveer 320 W/(m·K), met een hoge thermische geleidbaarheid en uitstekende mechanische eigenschappen. Dankzij de superieure stabiliteit bij omgevingstemperatuur is Si₃N₄ een algemeen toe......
Lees verder
Belangrijkste soorten thermische oxidatie
Bij de vervaardiging van hoogwaardige halfgeleiderapparaten worden SiO₂-films doorgaans gevormd via oxidatieprocessen voor de oppervlaktebehandeling van substraten, en hun gebruikelijke toepassingen omvatten doteringsbarrièrelagen, oppervlakte-isolatielagen, poortoxidelagen, veldoxiden en opoffering......
Lees verder
Semicorex Keramiek toegepast bij halfgeleiderverwerking
Met de vooruitgang van de technologie zijn slimme producten zoals mobiele telefoons, computers, elektrische voertuigen en robots geïntegreerd in het leven van mensen. Deze producten bevatten een groot aantal halfgeleiderchips, en voor de vervaardiging van chips is halfgeleiderapparatuur nodig, zoals......
Lees verder
Korte introductie tot siliciumwafels met hoge weerstand
Siliciumwafels met hoge weerstand (HR-Si), zoals de naam al doet vermoeden, zijn een monokristallijn siliciummateriaal met een extreem hoge weerstand. Op het gebied van geavanceerde halfgeleiderproductie is hoogfrequent verlies een grote uitdaging geworden bij het ontwerpen van hoogwaardige chips. D......
Lees verder
Waarom focusring onmisbaar is voor etsapparatuur？
Focusring, ook wel compensatiering of opsluitingsring genoemd, is een onmisbaar onderdeel van etsapparatuur, met name plasmadroogetsapparatuur. Precisie-etsprocessen op nanoschaal in de moderne halfgeleiderproductie zouden zonder dit niet haalbaar zijn. Het gebruik van een focusring zorgt voor etsun......
Lees verder
Welke rollen speelt het gloeiproces?
Door de verwarmings- en koelingsprofielen nauwkeurig te reguleren, kan het uitgloeiproces doteringsatomen activeren, roosterschade herstellen, interne spanning verlichten en de elektrische betrouwbaarheid van wafers verbeteren. Deze kritische prestatieverbeteringen leggen een solide basis voor de da......
Lees verder
