- English
- Español
- Português
- русский
- Français
- 日本語
- Deutsch
- tiếng Việt
- Italiano
- Nederlands
- ภาษาไทย
- Polski
- 한국어
- Svenska
- magyar
- Malay
- বাংলা ভাষার
- Dansk
- Suomi
- हिन्दी
- Pilipino
- Türkçe
- Gaeilge
- العربية
- Indonesia
- Norsk
- تمل
- český
- ελληνικά
- український
- Javanese
- فارسی
- தமிழ்
- తెలుగు
- नेपाली
- Burmese
- български
- ລາວ
- Latine
- Қазақша
- Euskal
- Azərbaycan
- Slovenský jazyk
- Македонски
- Lietuvos
- Eesti Keel
- Română
- Slovenski
- मराठी
- Srpski језик
Nieuws uit de sector
Wat zijn de verschillen tussen epitaxie en CVD
Bij het dunnefilmdepositieproces bij de productie van chips worden twee technologieën vaak samen genoemd, maar toch zijn ze fundamenteel verschillend: epitaxie en chemische dampdepositie. Ze lijken op neven en nichten, beide behorend tot de ‘dampgroei’-familie, maar met verschillende kenmerken en st......
Lees verder
Halfgeleider CVD SiC-procestechnologie
Chemical Vapour Deposition (CVD) SiC-procestechnologie is essentieel voor de productie van hoogwaardige vermogenselektronica, waardoor de precieze epitaxiale groei van zeer zuivere siliciumcarbidelagen op substraatwafels mogelijk wordt. Door gebruik te maken van de grote bandafstand en superieure th......
Lees verder
Hoe selecteert u de optimale grafietproducten voor uw toepassing?
Verschillende toepassingsscenario's stellen verschillende prestatie-eisen voor grafietproducten, waardoor nauwkeurige materiaalkeuze een kernstap is bij de toepassing van grafietproducten. Door grafietcomponenten te kiezen waarvan de prestaties overeenkomen met de toepassingsscenario's, kan niet all......
Lees verder
Wat is de temperatuurgradiënt in het thermische veld?
Het thermische veld voor eenkristalgroei is de ruimtelijke verdeling van de temperatuur binnen de hogetemperatuuroven tijdens het groeiproces van een eenkristal, wat rechtstreeks van invloed is op de kwaliteit, de groeisnelheid en de kristalvormingssnelheid van het eenkristal. Thermisch veld kan wor......
Lees verder
Een korte introductie tot dummywafeltjes
Geavanceerde halfgeleiderproductie bestaat uit meerdere processtappen, waaronder depositie van dunne films, fotolithografie, etsen, ionenimplantatie en chemisch-mechanisch polijsten. Tijdens dit proces kunnen zelfs kleine foutjes in het proces een schadelijk effect hebben op de prestaties en betrouw......
Lees verder
