PBN keramische schijf

Een van de belangrijkste voordelen van de PBN keramische schijf is de opmerkelijk hoge zuiverheid. De zuiverheid van de gasvormige materialen die in het syntheseproces worden gebruikt (BCl3 + NH3 -> BN + HCl) is veel groter dan die van conventionele boornitridepoeders. Bijgevolg bereikt de PBN-keramische schijf een zuiverheidsniveau van 99,99%, waarbij de totale onzuiverheden minder dan 100 delen per miljoen (ppm) bedragen. Deze uitzonderlijke zuiverheid is cruciaal bij de productie van halfgeleiders, waar zelfs de kleinste vervuiling kan leiden tot defecten in elektronische componenten. Door een dergelijke hoge zuiverheid te garanderen, minimaliseert de PBN Ceramic Disc het risico op besmetting, waardoor de betrouwbaarheid en prestaties van halfgeleiderapparaten worden verbeterd.

Het CVD-proces dat wordt gebruikt bij de productie van de PBN-keramische schijf geeft deze een bijna perfecte gelaagde structuur. Deze unieke structuur vergemakkelijkt de anisotrope thermische geleidbaarheid, een eigenschap die zeer gunstig is voor componenten die worden gebruikt in oven- en vacuümsystemen. Dankzij de anisotrope thermische geleidbaarheid kan de PBN-keramische schijf de warmteverdeling effectief beheren, waardoor een uniforme temperatuurregeling over het oppervlak van de schijf wordt gegarandeerd. Deze mogelijkheid is essentieel bij productieprocessen van halfgeleiders die nauwkeurig thermisch beheer vereisen om thermische gradiënten te voorkomen die zouden kunnen leiden tot defecten of inefficiënties van componenten.

Op het gebied van thermische veerkracht onderscheidt de PBN-keramische schijf zich als een voorbeeldmateriaal. Het is bestand tegen temperaturen tot 1800°C in vacuümomgevingen en 2000°C in stikstof, zonder een smeltpunt te vertonen. Deze buitengewone thermische stabiliteit maakt het een ideale keuze voor ovencomponenten en smeltvaten, waar extreme temperaturen een routine-onderdeel zijn. Het vermogen om de structurele integriteit bij zulke hoge temperaturen te behouden, garandeert een lange levensduur en betrouwbaarheid, waardoor de noodzaak voor frequente vervangingen wordt verminderd en daarmee de totale operationele kosten worden verlaagd.

Chemische inertie is een ander kenmerk van de PBN keramische schijf. Het is bestand tegen reacties met een breed scala aan stoffen, waaronder zuren, logen, organische oplosmiddelen, gesmolten metalen en grafiet. Deze inertie is bijzonder voordelig bij de productie van halfgeleiders, waar blootstelling aan reactieve stoffen gebruikelijk is. Door niet-reactief te blijven, vermijdt de PBN keramische schijf ongewenste chemische interacties die de integriteit en functionaliteit van halfgeleidercomponenten in gevaar zouden kunnen brengen.

De toepassingen van de PBN keramische schijf in de halfgeleiderindustrie zijn divers en impactvol. De eigenschappen maken het een ideaal materiaal voor gebruik in verschillende omgevingen met hoge temperaturen en hoge zuiverheid. Bij epitaxiale groeiprocessen fungeert de schijf bijvoorbeeld als een cruciaal onderdeel in depositiesystemen, waar de zuiverheid en thermische geleidbaarheid ervan zorgen voor de productie van hoogwaardige halfgeleiderlagen. Bovendien biedt de PBN keramische schijf bij de fabricage van LED's en andere opto-elektronische apparaten een stabiel en betrouwbaar platform dat de ingewikkelde processen ondersteunt die nodig zijn om optimale apparaatprestaties te bereiken.

Bovendien strekt de rol van de PBN Ceramic Disc zich uit tot de productie van vermogenselektronische apparaten. Deze apparaten werken vaak bij hoge temperaturen en vereisen materialen die onder dergelijke omstandigheden hun prestaties kunnen behouden. De uitstekende thermische en chemische eigenschappen van de PBN-keramische schijf maken het een geschikte keuze voor substraten en andere componenten binnen vermogenselektronische systemen, wat bijdraagt ​​aan de efficiëntie en duurzaamheid van deze apparaten.

Boornitridestructuren