PBN elektrostatische boorkop

Materiaaleigenschappen vanPBNElektrostatische boorkop

Bestand tegen hoge temperaturen en diëlektrische sterkte

DePBNElektrostatische Chuck staat bekend om zijn uitzonderlijke weerstand tegen hoge temperaturen, een eigenschap die cruciaal is in het productieproces van halfgeleiders. Pyrolytisch boornitride (PBN), het materiaal dat wordt gebruikt bij de constructie van de spankop, vertoont een weerstand die hoger is dan die van de meeste algemeen gebruikte keramiek, wat cruciaal is voor het handhaven van de Johnsen-Rahbek (J-R) spankracht tot temperaturen van 1050°C. Deze hoge soortelijke weerstand, gekoppeld aan de hoge diëlektrische sterkte, zorgt ervoor dat elektrische storingen effectief worden voorkomen, zelfs onder intense hitte, waardoor de operationele betrouwbaarheid van de spantang wordt vergroot.

Thermische uniformiteit en schokbestendigheid

De hexagonale roosterstructuur van PBN, vervaardigd door chemische dampafzetting bij temperaturen boven de 1500°C, draagt ​​bij aan de uitstekende thermische uniformiteit en schokbestendigheid. De verwarmingselementen met hoge dichtheid in dePBNDankzij de elektrostatische Chuck kan een consistent thermisch profiel van de wafer worden bereikt met een goede uniformiteit van 1,1–1,5% bij temperaturen van 600–800°C. Bovendien vertoont de op PBN gebaseerde boorkop een opmerkelijke weerstand tegen thermische schokken en een lagere thermische massa, waardoor hij 600°C kan bereiken met een hoge snelheid van 23°C/sec zonder het risico van barsten of delaminatie.

Aanpasbare verwarming met meerdere zones

De PBN elektrostatische boorkop is in hoge mate aanpasbaar en beschikt over verwarmingsmogelijkheden in meerdere zones die maximale temperatuurregeling mogelijk maken. Dit aanpassingsniveau zorgt ervoor dat elke boorkop kan worden aangepast aan de specifieke eisen van individuele klanten, waardoor een flexibele oplossing wordt geboden voor verschillende halfgeleiderverwerkingstoepassingen.

Toepassingen vanPBNElektrostatische boorkop

Ionenimplantatie en behandeling van wafers

De PBN-elektrostatische klem is het voorkeursapparaat voor het hanteren van wafels bij ionenimplantatieprocessen. Het vermogen om wafers vast te houden bij temperaturen boven de 1000°C maakt het tot een van de meest veelzijdige elektrostatische klauwplaten op de markt. Deze veelzijdigheid wordt verder vergroot door het vermogen om wafels binnen zeer krappe temperatuurbereiken te houden, dankzij de verwarmingselementen met hoge dichtheid en meerdere zones.

Implantatie van siliciumcarbide-ionen

Bij de specifieke toepassing van SiC-ionenimplantatie wordt dePBNElektrostatische Chuck biedt een haalbare oplossing voor de uitdagingen van het verwarmen en hanteren van wafers. De dubbele functiemogelijkheden, waaronder een hoge spankracht, een hoog verwarmingsvermogen, een goede thermische uniformiteit en een snelle respons, maken het een ideale keuze voor het aanpakken van de complexe vereisten van SiC-ionenimplantatie.

Productie van halfgeleiders

De PBN elektrostatische klem speelt een cruciale rol in de productie van halfgeleiders, waarbij nauwkeurige wafelhantering en temperatuurregeling essentieel zijn. De hoge thermische schokbestendigheid en het snelle temperatuurstijgingsvermogen maken hem geschikt voor geavanceerde halfgeleiderprocessen die een rigoureus temperatuurbeheer en snelle thermische cycli vereisen.