Al2O3 vacuümhouder

Toepassingen in de productie van halfgeleiders

SemicorexAl2O3-vacuümklauwplaat is een veelzijdig hulpmiddel dat in meerdere stadia van de productie van halfgeleiders wordt gebruikt:

Verdunnen: Tijdens het verdunningsproces van de wafels biedt de Al2O3-vacuümhouder stabiele en uniforme ondersteuning, waardoor een zeer nauwkeurige substraatreductie wordt gegarandeerd. Dit is cruciaal voor het verbeteren van de warmteafvoer van de chip en het verbeteren van de prestaties van het apparaat.

In blokjes snijden: In de fase van het in blokjes snijden, waarbij wafels in individuele chips worden gesneden, biedt de Al2O3-vacuümhouder een veilige en stabiele adsorptie, waardoor het risico op schade wordt geminimaliseerd en zuivere sneden worden gegarandeerd.

Reiniging: Het gladde en uniforme adsorptieoppervlak van de Al2O3-vacuümhouder maakt hem geschikt voor wafelreinigingsprocessen, waardoor verontreinigingen effectief worden verwijderd zonder de wafels te beschadigen.

Transporteren: Tijdens het hanteren en transporteren van wafels biedt de Al2O3-vacuümhouder betrouwbare en veilige ondersteuning, waardoor het risico op schade en besmetting wordt verminderd.

SemicorexVacuümChuck Flow

Voordelen van Semicorex Al2O3 Vacuümklauwplaat

1. Uniforme microporeuze keramische technologie

De Al2O3-vacuümklauwplaat is geconstrueerd met behulp van microporeuze keramische technologie, waarbij gebruik wordt gemaakt van nanopoeders van uniforme grootte. Deze technologie zorgt ervoor dat de poriën gelijkmatig verdeeld en met elkaar verbonden zijn, wat resulteert in een hoge porositeit en een uniforme dichte structuur. Deze uniformiteit verbetert de prestaties van de vacuümklauwplaat en zorgt voor een consistente en betrouwbare waferondersteuning.

2. Uitzonderlijke materiaaleigenschappen

Het ultrazuivere 99,99% aluminiumoxide (Al2O3) dat in de Al2O3-vacuümklauwplaat wordt gebruikt, biedt een reeks uitzonderlijke eigenschappen:

Thermische eigenschappen: Met een hoge hittebestendigheid en uitstekende thermische geleidbaarheid is de Al2O3-vacuümhouder bestand tegen de hoge temperaturen die vaak voorkomen bij de productie van halfgeleiders.

Mechanische eigenschappen: De hoge sterkte en hardheid van aluminiumoxide zorgen ervoor dat de Al2O3-vacuümklauwplaat duurzaam en bestand is tegen slijtage, waardoor langdurige prestaties worden geleverd.

Andere eigenschappen: Aluminiumoxide biedt ook een hoge elektrische isolatie en corrosieweerstand, waardoor de Al2O3-vacuümklauwplaat geschikt is voor een breed scala aan productieomgevingen.

3. Superieure vlakheid en parallelliteit

Een van de belangrijkste voordelen van de Al2O3-vacuümklauwplaat is de hoge vlakheid en parallelliteit. Deze eigenschappen zijn cruciaal voor het garanderen van een nauwkeurige en stabiele handling van wafers, het minimaliseren van het risico op schade en het garanderen van consistente verwerkingsresultaten. Bovendien zorgen de goede luchtdoorlaatbaarheid en uniforme adsorptiekracht van de Al2O3-vacuümklauwplaat voor een soepele en betrouwbare werking.

4. Aanpassingsopties

Bij Semicorex begrijpen we dat elk halfgeleiderproductieproces unieke vereisten heeft. Daarom bieden wij op maat gemaakte vacuümklauwplaten die zijn afgestemd op uw specifieke behoeften. Afhankelijk van de vereiste vlakheid en productiekosten adviseren wij verschillende basismaterialen, zodat het gewicht en de prestaties van de vacuümklauwplaat optimaal zijn voor uw toepassing. Deze materialen omvatten SUS430 roestvrij staal, aluminiumlegering 6061, dicht aluminiumoxide-keramiek (ivoorkleur), graniet en dicht siliciumcarbide-keramiek.

Al2O3 vacuümklauwplaat CMM-meting