Aluminiumoxide keramische wafelplaten

De multi-porositeit van Semicorex Alumina Ceramic Wafer Chucks zorgt voor een hoog specifiek oppervlak, wat betekent dat er meer oppervlak beschikbaar is voor interactie met het doelobject. Hoge porositeit draagt ​​bij aan een verbeterd adsorptievermogen, waardoor een veilige en uniforme grip van de wafel tijdens het slijpen mogelijk wordt. Deze uniformiteit is essentieel voor het bereiken van defectvrije waferoppervlakken van hoge kwaliteit, wat een kernvereiste is bij de fabricage van halfgeleiders.

Keramische Wafer Chucks van aluminiumoxide vertonen een goede thermische geleidbaarheid, wat essentieel is voor het effectief afvoeren van warmte tijdens het slijpproces. Dit warmtebeheer voorkomt schade aan zowel de klauwplaat als het werkstuk, waardoor een hoge nauwkeurigheid bij de wafelfabricage wordt gegarandeerd. Bovendien maakt het vermogen van Alumina Ceramic Wafer Chucks om hoge temperaturen te weerstaan ​​zonder vervorming of verlies van structurele integriteit ze geschikt voor toepassingen die onder extreme omstandigheden werken, zoals halfgeleiderverwerkingsapparatuur.

De inerte aard van keramische Wafer Chucks van aluminiumoxide zorgt voor een sterke weerstand tegen corrosie door een grote verscheidenheid aan chemicaliën. Deze weerstand tegen corrosieve stoffen is niet alleen cruciaal voor het behoud van de integriteit van de spankop, maar ook voor het voorkomen van vervuiling van de wafers tijdens de verwerking. De chemische stabiliteit zorgt ervoor dat de Alumina Ceramic Wafer Chucks niet reageren met proceschemicaliën of het materiaal dat wordt verwerkt, wat van cruciaal belang is bij de productie van halfgeleiders en andere gevoelige toepassingen.