Aluminiumoxide keramische vacuümhouder

Semicorex Alumina Ceramic Vacuum Chuck speelt een essentiële rol in de fases van het verdunnen en slijpen van wafers bij de productie van halfgeleiders. Deze fasen omvatten de nauwgezette vermindering van de dikte van het wafersubstraat om de warmteafvoer van de chip te verbeteren, wat essentieel is voor het verbeteren van de efficiëntie en levensduur van halfgeleiderapparaten. Het verdunnen van wafers volgens nauwkeurige specificaties is ook van cruciaal belang voor het faciliteren van geavanceerde verpakkingstechnieken.

Compatibiliteit met meerdere wafelformaten

De aluminiumoxide keramische vacuümhouder is ontworpen om een ​​breed scala aan wafelformaten te ondersteunen, waaronder 2, 3, 4, 5, 6, 8 en 12 inch. Dit aanpassingsvermogen maakt het geschikt voor een breed scala aan halfgeleiderproductieomgevingen, waardoor consistente en betrouwbare prestaties over verschillende waferafmetingen worden gegarandeerd.

Superieure materiaalsamenstelling

De basis van de Alumina Ceramic Vacuum Chuck is gemaakt van ultrazuiver 99,99% aluminiumoxide (Al2O3), dat uitzonderlijke weerstand biedt tegen chemische aanvallen en thermische stabiliteit. Het adsorptieoppervlak is gemaakt van poreus siliciumcarbide (SiC). De compacte en uniforme structuur van het poreuze keramische materiaal verbetert de duurzaamheid en prestaties.

Voordelen van microporeuze keramische technologie

Verbeterde vlakheid en parallelliteit: De microporeuze aluminiumoxide keramische vacuümklauwplaat levert uitzonderlijke vlakheid en parallelliteit, waardoor een nauwkeurige handling en stabiliteit van de wafer wordt gegarandeerd.

Optimale porositeit en ademend vermogen: De goed verdeelde microporiën zorgen voor superieure luchtdoorlaatbaarheid en uniforme adsorptiekracht, wat leidt tot een soepele en consistente werking.

Zuiverheid en duurzaamheid van het materiaal: Onze keramische vacuümhouder van aluminiumoxide is gemaakt van 99,99% puur aluminiumoxide en is bestand tegen chemische aanvallen en biedt opmerkelijke thermische stabiliteit, waardoor hij geschikt is voor veeleisende productieomgevingen.

Aanpasbare ontwerpen: We bieden een verscheidenheid aan aanpasbare vormen, waaronder ronde, vierkante, lusvormige en L-vormige ontwerpen, met dikteopties variërend van 3 mm tot 10 mm. Deze aanpassing zorgt ervoor dat onze aluminiumoxide keramische vacuümklauwplaat voldoet aan de specifieke behoeften van verschillende halfgeleiderproductieprocessen.

Diverse basismateriaalopties: Op basis van de vereisten voor vlakheid en productiekosten geven we aanbevelingen voor verschillende basismaterialen, zoals SUS430 roestvrij staal, aluminiumlegering 6061, dicht aluminiumoxide-keramiek (ivoorkleur), graniet en dicht siliciumcarbide-keramiek. Elk materiaal is gekozen om het gewicht en de prestaties van de aluminiumoxide keramische vacuümklauwplaat te optimaliseren.