Semicorex-reinigingstank, een cruciaal onderdeel in het halfgeleiderproductieproces, is ontworpen met precisie en expertise om te voldoen aan de strenge eisen van de industrie. Semicorex streeft ernaar kwaliteitsproducten te leveren tegen concurrerende prijzen. We kijken ernaar uit om uw langetermijnpartner in China te worden*.
De Semicorex-reinigingstank is gemaakt van hoogwaardig kwarts en biedt ongeëvenaarde prestaties en betrouwbaarheid, waardoor wordt gegarandeerd dat halfgeleiderwafels grondig worden gereinigd en vrij zijn van verontreinigingen die hun integriteit in gevaar kunnen brengen.
Voor de constructie van de reinigingstank is gekozen voor kwarts vanwege de uitzonderlijke chemische bestendigheid en thermische stabiliteit. De kwartsreinigingstank is bestand tegen de agressieve chemicaliën die vaak worden gebruikt bij reinigingsprocessen, zoals fluorwaterstofzuur en andere sterke etsmiddelen. De thermische stabiliteit zorgt ervoor dat het bestand is tegen de hoge temperaturen die vaak nodig zijn bij de verwerking van halfgeleiders, zonder te vervormen of te verslechteren, waardoor de structurele integriteit en prestaties gedurende lange perioden behouden blijven.
Het ontwerp van de reinigingstank is zorgvuldig ontworpen om het reinigingsproces te optimaliseren. De gladde, naadloze binnenkant minimaliseert de vorming van deeltjes en voorkomt de ophoping van verontreinigingen. De reinigingstank is ontworpen voor verschillende reinigingsmethoden, waaronder chemische baden, ultrasoon reinigen en megasoon reinigen. Elke methode heeft zijn specifieke voordelen, en dankzij de veelzijdigheid van de reinigingstank kan deze in meerdere fasen van het reinigingsproces worden gebruikt, van de eerste wafelreiniging tot het uiteindelijke spoelen en drogen.
In chemische baden zorgt de reinigingstank ervoor dat de wafels gelijkmatig worden blootgesteld aan reinigingsoplossingen, waardoor een consistente en grondige reiniging wordt bevorderd. De uniforme blootstelling is van cruciaal belang bij het verwijderen van deeltjes, organische resten en metaalverontreinigingen van het wafeloppervlak. Bij ultrasoon en megasoon reinigen creëren hoogfrequente geluidsgolven microscopisch kleine cavitatiebellen in de reinigingsoplossing. Wanneer deze bellen instorten, genereren ze krachtige schokgolven die verontreinigingen van het wafeloppervlak losmaken en verwijderen. De robuuste kwartsconstructie van de reinigingstank is bestand tegen de intense omstandigheden die door deze reinigingsmethoden worden veroorzaakt, waardoor duurzaamheid en effectiviteit op de lange termijn worden gegarandeerd.