CVD SiC gecoate grafiet douchekop

In een plasmaapparaat voor het etsen en chemische dampafzetting (CVD) van materialen op wafers worden procesgassen naar een proceskamer gevoerd via een met CVD SiC gecoate grafietdouchekop. Semicorex streeft ernaar kwaliteitsproducten te leveren tegen concurrerende prijzen. We kijken ernaar uit om uw langetermijnpartner in China te worden.

Stuur onderzoek

Productomschrijving

Semicorex CVD SiC (Chemical Vapor Deposition Silicon Carbide) gecoate grafietdouchekop is een gespecialiseerd onderdeel dat wordt gebruikt in verschillende industriële processen, zoals chemische dampafzetting (CVD) en plasma-versterkte chemische dampafzetting (PECVD). Het speelt een cruciale rol bij het afleveren van precursorgassen of reactieve soorten op het oppervlak van een substraat tijdens deze afzettingsprocessen.

De CVD SiC-gecoate grafietdouchekop is gemaakt van zeer zuiver grafiet en gecoat met een dunne SiC-laag volgens de CVD-methode. CVD SiC-gecoate grafietdouchekop combineert de gunstige eigenschappen van grafiet en SiC, waardoor het een essentieel onderdeel is in verschillende depositieprocessen waarbij nauwkeurige en uniforme gasverdeling vereist is, samen met weerstand tegen hoge temperaturen en chemische omgevingen.

Functies:

Chemische resistentie

Thermische stabiliteit

Glad en uniform oppervlak

Verminderde vervuiling