CVD-SiC Douchekop

Semicorex CVD-SiC douchekop biedt duurzaamheid, uitstekend thermisch beheer en weerstand tegen chemische degradatie, waardoor het een geschikte keuze is voor veeleisende CVD-processen in de halfgeleiderindustrie. Semicorex streeft ernaar kwaliteitsproducten te leveren tegen concurrerende prijzen. We kijken ernaar uit om uw langetermijnpartner in China te worden.

Stuur onderzoek

Productomschrijving

In de context van een CVD-douchekop is een CVD-SiC-douchekop doorgaans ontworpen om precursorgassen gelijkmatig over het substraatoppervlak te verdelen tijdens het CVD-proces. De douchekop wordt meestal boven het substraat geplaatst en de precursorgassen stromen door kleine gaatjes of mondstukken op het oppervlak.

Het CVD-SiC-materiaal dat in de douchekop wordt gebruikt, biedt verschillende voordelen. De hoge thermische geleidbaarheid helpt de warmte af te voeren die wordt gegenereerd tijdens het CVD-proces, waardoor een uniforme temperatuurverdeling over het substraat wordt gegarandeerd. Bovendien zorgt de chemische stabiliteit van SiC ervoor dat het bestand is tegen corrosieve gassen en zware omstandigheden die vaak voorkomen bij CVD-processen.

Het ontwerp van een CVD-SiC-douchekop kan variëren, afhankelijk van het specifieke CVD-systeem en procesvereisten. Meestal bestaat het echter uit een plaat- of schijfvormig onderdeel met een reeks nauwkeurig geboorde gaten of sleuven. Het gatenpatroon en de geometrie zijn zorgvuldig ontworpen om een uniforme gasverdeling en stroomsnelheden over het substraatoppervlak te garanderen.