Horizontale SiC-waferboot

Een bepalend kenmerk van Semicorex Horizontal SiC Wafer Boat is de zorgvuldig ontworpen architectuur met sleuven, speciaal afgestemd om wafers veilig op hun plaats te houden tijdens verschillende processen bij hoge temperaturen. Deze precieze waferbeperking vervult verschillende cruciale functies:

Eliminatie van wafelbeweging:Door ongewenst glijden of verschuiven te voorkomen, zorgt de Horizontal SiC Wafer Boat voor een consistente blootstelling aan procesgassen en temperatuurprofielen, wat bijdraagt ​​aan een zeer uniforme wafelverwerking en het risico op defecten minimaliseert.

Verbeterde procesuniformiteit:Consistente waferpositionering vertaalt zich direct in superieure uniformiteit in kritische parameters zoals laagdikte, dopingconcentraties en oppervlaktemorfologie. Deze precisie is vooral cruciaal in toepassingen zoals chemische dampafzetting (CVD) en diffusie, waarbij zelfs kleine variaties de prestaties van apparaten aanzienlijk kunnen beïnvloeden.

Verminderde wafelschade:De veilige grip van de Horizontale SiC Wafer Boat minimaliseert de kans op chippen, breken of krassen van de wafer tijdens het hanteren en transport, wat essentieel is voor het behouden van hoge opbrengsten en het verlagen van de productiekosten.

Naast hun precisieontwerp biedt de Horizontale SiC Wafer Boat een overtuigende combinatie van materiaaleigenschappen die hem ideaal maken voor de productie van halfgeleiders en fotovoltaïsche energie:

Extreme temperatuurbestendigheid: De Horizontale SiC Wafer Boat vertoont uitzonderlijke sterkte en stabiliteit bij hoge temperaturen, waardoor hij bestand is tegen de extreme thermische omstandigheden die optreden tijdens processen zoals kristalgroei, gloeien en snelle thermische verwerking (RTP) zonder vervorming of degradatie.

Ultrahoge zuiverheid voor verontreinigingsbeheersing:Het gebruik van zeer zuiver SiC zorgt voor minimale ontgassing of vorming van deeltjes, waardoor de integriteit van gevoelige waferoppervlakken wordt gewaarborgd en verontreiniging wordt voorkomen die de prestaties van het apparaat in gevaar zou kunnen brengen.

Uitzonderlijke chemische stabiliteit:De inherente inertheid van SiC maakt de Horizontale SiC Wafer Boat zeer goed bestand tegen aanvallen van corrosieve gassen en chemicaliën die vaak worden gebruikt bij de productie van halfgeleiders en fotovoltaïsche cellen. Deze robuuste chemische stabiliteit zorgt voor een lange operationele levensduur en minimaliseert het risico op kruisbesmetting tussen procesruns.

De veelzijdigheid en prestatievoordelen van de Horizontale SiC Wafer Boat hebben geleid tot een brede toepassing ervan in een reeks kritische halfgeleider- en fotovoltaïsche productieprocessen:

Epitaxiale groei:Nauwkeurige waferpositionering en temperatuuruniformiteit zijn cruciaal voor het bereiken van hoogwaardige epitaxiale lagen in geavanceerde halfgeleiderapparaten, waardoor de Horizontal SiC Wafer Boat een essentieel hulpmiddel is voor dit proces.

Diffusie en ionenimplantatie:Nauwkeurige dopingcontrole is van cruciaal belang bij het definiëren van de elektrische kenmerken van halfgeleiderapparaten. De Horizontale SiC Wafer Boat zorgt voor een nauwkeurige waferpositionering tijdens deze processen, wat leidt tot verbeterde uniformiteit en apparaatprestaties.

Productie van zonnecellen:De hoge temperatuureigenschappen en chemische bestendigheid van de Horizontal SiC Wafer Boat maken hem ideaal voor de verwerking van siliciumwafels die worden gebruikt in fotovoltaïsche cellen, wat bijdraagt ​​aan een verhoogde efficiëntie en levensduur van zonne-energiesystemen.