In de halfgeleiderindustrie spelen epitaxiale lagen een cruciale rol door specifieke dunne films met één kristal te vormen bovenop een wafelsubstraat, gezamenlijk bekend als epitaxiale wafels. In het bijzonder produceren epitaxiale lagen van siliciumcarbide (SiC) gegroeid op geleidende SiC-substrate......
Lees verderMomenteel gebruiken de meeste fabrikanten van SiC-substraten een nieuw thermisch veldprocesontwerp voor smeltkroezen met poreuze grafietcilinders: het plaatsen van zeer zuivere SiC-deeltjesgrondstoffen tussen de grafietkroeswand en de poreuze grafietcilinder, terwijl de gehele smeltkroes wordt verdi......
Lees verderEpitaxiale groei verwijst naar het proces waarbij een kristallografisch goed geordende monokristallijne laag op een substraat groeit. Over het algemeen omvat epitaxiale groei het cultiveren van een kristallaag op een enkelkristalsubstraat, waarbij de gegroeide laag dezelfde kristallografische oriënt......
Lees verderChemical Vapour Deposition (CVD) verwijst naar een procestechnologie waarbij meerdere gasvormige reactanten bij verschillende partiële drukken een chemische reactie ondergaan onder specifieke temperatuur- en drukomstandigheden. De resulterende vaste substantie zet zich af op het oppervlak van het su......
Lees verderNaarmate de mondiale acceptatie van elektrische voertuigen geleidelijk toeneemt, zal Silicon Carbide (SiC) het komende decennium nieuwe groeimogelijkheden tegenkomen. Er wordt verwacht dat fabrikanten van vermogenshalfgeleiders en exploitanten in de auto-industrie actiever zullen deelnemen aan de op......
Lees verder