PSS-etsdrager (Patterned Sapphire Substrate) wordt gebruikt bij de vervaardiging van LED-apparaten. De PSS-etsdrager dient als substraat voor de groei van een dunne film galliumnitride (GaN) die de LED-structuur vormt en vervolgens het etsproces ervaart. Het vereist dus materiaal met een hoge hitte- en corrosiebestendigheid. Semicorex SiC-gecoate PSS-etsdrager, speciaal ontworpen voor deze veeleisende epitaxieapparatuurtoepassingen. De drager is bedekt met siliciumcarbide volgens de CVD-methode, heeft ook een hoge thermische geleidbaarheid en uitstekende warmteverdelingseigenschappen.
Waferdragers die worden gebruikt bij epixiale groei en verwerking van wafers moeten hoge temperaturen en agressieve chemische reiniging doorstaan. Semicorex SiC gecoate PSS-etsdrager speciaal ontworpen voor deze veeleisende epitaxieapparatuurtoepassingen. Onze producten hebben een goed prijsvoordeel en bestrijken een groot deel van de Europese en Amerikaanse markten. We kijken ernaar uit om uw langetermijnpartner in China te worden.
Lees verderStuur onderzoek