Halfgeleider kwarts stolp

Semicorex Semiconductor Quartz Bell Jar wordt doorgaans vervaardigd uit synthetisch gesmolten kwarts, een materiaal dat bekend staat om zijn uitzonderlijke zuiverheid, hoge temperatuurbestendigheid en lage thermische uitzettingseigenschappen. Dit zorgt ervoor dat de kamer geen verontreinigingen of onzuiverheden in het halfgeleiderfabricageproces introduceert.

Halfgeleiderkwarts stolp is doorgaans cilindrisch of koepelvormig, met een platte of licht gebogen basis voor halfgeleiderwafels of substraten. Het beschikt over een nauwkeurig ontworpen, luchtdicht afdichtingsmechanisme, zoals een flens- of O-ringafdichting, om tijdens de verwerking een vacuüm of een gecontroleerde atmosfeer in de kamer te handhaven.

Halfgeleider Quartz Bell Jar biedt uitstekende optische helderheid, waardoor operators processen in de kamer visueel kunnen bewaken zonder de nauwkeurigheid in gevaar te brengen of interferentie te introduceren. Kwarts is zeer goed bestand tegen chemische aantasting door de meeste zuren, basen en oplosmiddelen die gewoonlijk worden gebruikt bij de fabricage van halfgeleiders. Dit waarborgt de integriteit van de kamer en voorkomt verontreiniging van de substraten.

Kwarts heeft een hoog smeltpunt en thermische stabiliteit, waardoor de Semiconductor Quartz Bell Jar bestand is tegen hoge temperaturen die optreden tijdens afzettings- of uitgloeiprocessen zonder vervorming of degradatie.

Toepassingen:

Depositie: Halfgeleider kwartsklokken worden gebruikt in verschillende depositietechnieken zoals chemische dampdepositie (CVD), fysische dampdepositie (PVD) en atomaire laagdepositie (ALD) om dunne films van materialen met precisie en uniformiteit op halfgeleidersubstraten af ​​te zetten.

Etsen: Ze worden gebruikt bij plasma-etsprocessen om selectief materiaal van halfgeleiderwafels te verwijderen, waardoor ingewikkelde patronen en structuren met hoge nauwkeurigheid en herhaalbaarheid ontstaan.

Gloeien: Stolkers worden gebruikt bij gloeiprocessen om halfgeleiderwafels te onderwerpen aan een gecontroleerde thermische behandeling, waardoor kristallisatie, activering van doteermiddelen en spanningsverlichting in afgezette films worden vergemakkelijkt.