SiC-gecoate steunring

Semicorex SiC gecoate steunring speelt een cruciale rol bij het waarborgen van de precisie en kwaliteit van epitaxiale lagen die op halfgeleiderwafels worden afgezet.

De met SiC gecoate steunring biedt een robuuste beschermlaag die bestand is tegen de extreme temperaturen en corrosieve omgevingen die typisch zijn voor epitaxiale groeireactoren. De superieure thermische eigenschappen van SiC zorgen voor een uniforme temperatuurverdeling over het waferoppervlak, waardoor thermische gradiënten en spanningen worden geminimaliseerd. Deze stabiliteit is cruciaal voor het bereiken van epitaxiale lagen van hoge kwaliteit met minimale defecten.

De met SiC gecoate steunring is bestand tegen chemische aanvallen van reactieve gassen die worden gebruikt in het epitaxiale proces, waardoor de operationele levensduur van de steunring wordt verlengd en de procesintegriteit behouden blijft. Deze weerstand vermindert het besmettingsrisico en draagt ​​bij aan een hogere zuiverheid en betere prestaties van de halfgeleiderapparaten.

Met SiC gecoate steunring zorgt voor een nauwkeurige positionering van de wafer, cruciaal voor een uniforme laagafzetting. De structurele integriteit van de met SiC gecoate steunring onder hoge temperaturen zorgt voor consistente prestaties gedurende meerdere verwerkingscycli.

Semicorex SiC gecoate steunring is een cruciaal onderdeel in de vooruitgang van de halfgeleidertechnologie en garandeert de productie van hoogwaardige apparaten met optimale prestaties en betrouwbaarheid.