De Semicorex SiC-gecoate Wafer Disc vertegenwoordigt een toonaangevende vooruitgang in de productietechnologie van halfgeleiders en speelt een essentiële rol in het complexe proces van het vervaardigen van halfgeleiders. Deze schijf is met nauwgezette precisie ontworpen en vervaardigd uit superieur SiC-gecoat grafiet, wat uitstekende prestaties en duurzaamheid levert voor toepassingen met siliciumepitaxie. Wij bij Semicorex zijn toegewijd aan de productie en levering van hoogwaardige SiC-gecoate waferschijven die kwaliteit combineren met kostenefficiëntie.
De basis van de Semicorex SiC-gecoate Wafer Disc bestaat uit hoogwaardig grafiet, vakkundig gecoat met Chemical Vapour Deposition (CVD) SiC. Deze geavanceerde constructie biedt uitzonderlijke weerstand tegen thermische schokken en chemische degradatie, waardoor de levensduur van de SiC-gecoate Wafer Disc aanzienlijk wordt verlengd en betrouwbare prestaties tijdens het hele halfgeleiderfabricageproces worden gegarandeerd.
Opvallend is dat de Wafer Disc met SiC-coating uitblinkt in thermische geleidbaarheid, wat cruciaal is voor effectieve warmteafvoer tijdens de productie van halfgeleiders. Deze eigenschap minimaliseert thermische gradiënten over het wafeloppervlak, waardoor een uniforme temperatuurverdeling wordt bevorderd die essentieel is voor het bereiken van de gewenste halfgeleiderkarakteristieken.
De SiC-coating biedt robuuste bescherming tegen chemische corrosie en thermische schokken, waardoor de integriteit van de SiC-gecoate Wafer Disc behouden blijft, zelfs in zware procesomgevingen. Deze verbeterde duurzaamheid resulteert in een langere operationele levensduur en minder stilstand, wat bijdraagt aan een hogere productiviteit en kostenefficiëntie in halfgeleiderproductiefaciliteiten.
Bovendien kan de SiC-gecoate Wafer Disc worden aangepast aan specifieke eisen en voorkeuren. We bieden aanpassingsmogelijkheden, variërend van maataanpassingen tot variaties in de laagdikte, waardoor ontwerpflexibiliteit mogelijk is die de prestaties voor verschillende toepassingen en procesparameters optimaliseert.