SiC-schijfontvanger

Met een diepe toewijding aan kwaliteit en innovatie zet de ultrazuivere SiC Disc Susceptor van Semicorex een nieuwe standaard voor prestaties in epitaxie-, MOCVD- en RTP-apparatuur. Door uitzonderlijke thermische schokbestendigheid, superieure thermische geleidbaarheid, uitstekende chemische bestendigheid en ultrahoge zuiverheid te combineren, stellen deze speciaal ontworpen componenten halfgeleiderfabrikanten in staat ongeëvenaarde efficiëntie, betrouwbaarheid en productkwaliteit te bereiken. De aanpasbare oplossingen van Semicorex zorgen er verder voor dat elke thermische verwerkingstoepassing profiteert van geoptimaliseerde, nauwkeurig ontworpen componenten die zijn ontworpen om aan de unieke eisen te voldoen.

Uitstekende weerstand tegen thermische schokken:De SiC Disc Susceptor blinkt uit in het weerstaan ​​van snelle temperatuurschommelingen, die gebruikelijk zijn bij RTP en andere processen bij hoge temperaturen. Deze uitzonderlijke thermische schokbestendigheid zorgt voor structurele integriteit en een lange levensduur, waardoor het risico op schade of defecten als gevolg van plotselinge temperatuurveranderingen wordt geminimaliseerd en de betrouwbaarheid van de thermische verwerkingsapparatuur wordt vergroot.

Superieure thermische geleidbaarheid:Efficiënte warmteoverdracht is van cruciaal belang bij thermische verwerkingstoepassingen. De uitstekende thermische geleidbaarheid van de SiC Disc Susceptor zorgt voor een snelle en uniforme verwarming en koeling, essentieel voor nauwkeurige temperatuurregeling en procesuniformiteit. Dit leidt tot verbeterde procesefficiëntie, kortere cyclustijden en halfgeleiderwafels van hogere kwaliteit.

Uitzonderlijke chemische weerstand:De SiC Disc Susceptor biedt uitstekende weerstand tegen een breed scala aan corrosieve en reactieve chemicaliën die worden gebruikt in epitaxie-, MOCVD- en RTP-processen. Deze chemische inertie beschermt het onderliggende grafiet tegen afbraak, voorkomt vervuiling van de procesomgeving en zorgt voor consistente prestaties gedurende langere operationele perioden.

Ultrahoge zuiverheid: De SiC Disc Susceptor is vervaardigd volgens ultrahoge zuiverheidsnormen voor zowel grafiet- als SiC-coating, waardoor de kans op verontreiniging wordt vermeden en de productie van defectvrije halfgeleiderapparaten wordt gegarandeerd. Deze toewijding aan zuiverheid betekent hogere opbrengsten en verbeterde apparaatprestaties.

Beschikbaarheid van complexe vormen:De geavanceerde productiemogelijkheden bij Semicorex maken de productie van de SiC Disc Susceptor mogelijk in complexe vormen die zijn afgestemd op specifieke klantvereisten. Deze flexibiliteit maakt het ontwerpen van op maat gemaakte oplossingen mogelijk die voldoen aan de precieze behoeften van verschillende thermische verwerkingstoepassingen, waardoor de procesefficiëntie en apparatuurcompatibiliteit worden verbeterd.

Bruikbaar in oxiderende atmosferen:De robuuste CVD SiC-coating biedt uitstekende bescherming tegen oxidatie, waardoor de SiC Disc Susceptor betrouwbaar kan functioneren in oxiderende omgevingen. Dit breidt hun toepasbaarheid uit naar een breder scala aan thermische processen, waardoor veelzijdigheid en aanpassingsvermogen wordt gegarandeerd.

Stevige, herhaalbare prestaties:De SiC Disc Susceptor is ontworpen voor omgevingen met hoge temperaturen en vacuüm en biedt robuuste en herhaalbare prestaties. De duurzaamheid en consistentie maken ze ideaal voor kritische thermische verwerkingstoepassingen, waardoor de uitvaltijd en onderhoudskosten worden verminderd en de operationele betrouwbaarheid op lange termijn wordt gegarandeerd.

Semicorex is gespecialiseerd in het aanpassen van CVD SiC-gecoate componenten om te voldoen aan de uiteenlopende behoeften van thermische verwerkingsapparatuur, waaronder:

Verspreiders:Verbeter de uniformiteit van de gasdistributie en de procesconsistentie.

isolatoren:Zorg voor thermische isolatie en bescherming in omgevingen met hoge temperaturen.

Andere aangepaste thermische componenten:Op maat gemaakte oplossingen die zijn ontworpen om aan specifieke procesvereisten te voldoen en de prestaties van apparatuur te optimaliseren.