Susceptor met rooster

Semicorex Susceptor met raster is een gespecialiseerd onderdeel dat wordt gebruikt in het epitaxiale groeiproces van halfgeleiderwafels. Dit cruciale apparaat is ontworpen om de wafers te dragen en te ondersteunen tijdens de afzetting van materialen in een Metal-Organic Chemical Vapour Deposition (MOCVD)-systeem. De Susceptor met raster speelt een cruciale rol bij het garanderen van een uniforme en gecontroleerde groei van epitaxiale lagen op de halfgeleiderwafel.

De Susceptor met rooster is gemaakt van materialen die zijn geoptimaliseerd voor zijn functie. In dit geval is het gemaakt van MOCVD SiC (Metal-Organic Chemical Vapour Deposition Silicon Carbide) gecoat grafiet. Deze materiaalkeuze biedt verschillende voordelen, waaronder weerstand tegen hoge temperaturen, chemische stabiliteit en uitstekende thermische geleidbaarheid. De SiC-coating op het grafiet verbetert de duurzaamheid en weerstand van de susceptor tegen de zware omstandigheden die zich voordoen tijdens het epitaxiale groeiproces.

De Susceptor met rasterstructuur dient als ondersteuningsmechanisme voor de halfgeleiderwafels. Het is strategisch ontworpen om de wafers veilig op hun plaats te houden en tegelijkertijd een efficiënte gasstroom en uniforme afzetting van materialen mogelijk te maken. Het rasterpatroon helpt de warmte en reactanten gelijkmatig over het waferoppervlak te verdelen, wat bijdraagt ​​aan de nauwkeurige controle van de dikte en samenstelling van de epitaxiale laag.

Semicorex Susceptor met raster is een cruciaal onderdeel in het productieproces van geavanceerde halfgeleiderapparaten. De robuuste constructie en het gespecialiseerde ontwerp maken het tot een essentieel hulpmiddel voor het bereiken van epitaxiale groei van hoge kwaliteit, waardoor de productie van halfgeleiders met superieure prestaties en betrouwbaarheid wordt gegarandeerd.