TaC-gecoate grafiet susceptor

Uitzonderlijke thermische stabiliteit: De TaC-coating (Tantalum Carbide) op onze grafiet susceptor zorgt voor uitzonderlijke thermische stabiliteit, waardoor nauwkeurige temperatuurregeling tijdens het epitaxiale proces mogelijk is. Deze stabiliteit is cruciaal voor het handhaven van de uniformiteit in de wafelgroei en het optimaliseren van de algehele opbrengst.

Uniforme warmteverdeling: Behaal superieure resultaten met het geavanceerde ontwerp van onze susceptor, waardoor een uniforme warmteverdeling over het wafeloppervlak wordt bevorderd. Deze eigenschap minimaliseert temperatuurvariaties en verbetert de kwaliteit van de epitaxiale laag, wat resulteert in superieure halfgeleiderapparaten.

Verlengde levensduur: profiteer van een duurzame oplossing die bestand is tegen de strenge eisen van de halfgeleiderproductie. De TaC-coating verbetert niet alleen de thermische prestaties, maar draagt ​​ook bij aan de lange levensduur van de susceptor, waardoor een betrouwbare en kosteneffectieve oplossing wordt geboden.

Aanpasbare ontwerpen: Pas de susceptor aan uw specifieke procesvereisten aan met aanpasbare ontwerpopties. Of u nu een bepaalde maat, vorm of laagdikte nodig heeft, ons team staat klaar om met u samen te werken om een ​​oplossing te creëren die perfect aansluit bij uw unieke behoeften.

Upgrade uw wafer-epitaxiale proces met vertrouwen met behulp van de TaC Coated Graphite Susceptor – het toonbeeld van betrouwbaarheid, precisie en innovatie in de productie van halfgeleiders. Verbeter uw productiecapaciteiten en blijf voorop in de snel voortschrijdende wereld van de halfgeleidertechnologie.