Ultradun grafiet met hoge porositeit

Superieure oppervlaktedeeltjeshechting en uitstekende antistofeigenschappen: Semicorex ultradun grafiet met hoge porositeit vertoont een uitzonderlijke oppervlaktedeeltjeshechting, waardoor minimale stofontwikkeling wordt gegarandeerd en een schone werkomgeving wordt gehandhaafd, wat cruciaal is voor gevoelige toepassingen zoals de productie van halfgeleiders.

Tolerantie bij hoge temperaturen: het ultradunne grafiet met hoge porositeit is bestand tegen extreme temperaturen tot 2500 °C, waardoor het geschikt is voor processen bij hoge temperaturen en omgevingen waar conventionele materialen zouden falen.

Hoge porositeit tot 65%: De hoge porositeit van poreus grafiet zorgt voor een efficiënte gas- en vloeistofstroom, waardoor een betere massaoverdracht en warmteafvoer bij verschillende toepassingen mogelijk is.

Ultradun poreus grafiet met uitstekende bewerkbaarheid: het ultradunne grafiet met hoge porositeit kan worden vervaardigd tot ultradunne platen zo dun als 1,5 mm, terwijl de hoge porositeit behouden blijft, wat flexibiliteit in ontwerp en toepassing biedt.

Bewerkbaarheid voor cilindrische vormen met ultradunne wanden: het ultradunne grafiet met hoge porositeit kan worden bewerkt tot cilindrische vormen met ultradunne wanden met wanddiktes van ≤1 mm, wat veelzijdigheid biedt in componentontwerp en functionaliteit.

Uitstekende isolatie-eigenschappen en batch-consistentie: het ultradunne grafiet met hoge porositeit vertoont uitstekende isolatie-eigenschappen en consistente batch-tot-batch-prestaties, waardoor betrouwbare en reproduceerbare resultaten in kritische toepassingen worden gegarandeerd.

Ultrazuiver poreus grafietmateriaal: het ultradunne grafiet met hoge porositeit is verkrijgbaar in ultrazuivere vormen, waardoor een hoog zuiverheidsniveau wordt bereikt dat essentieel is voor veeleisende toepassingen zoals de productie van halfgeleiders.

Hoge sterkte: Ondanks zijn poreuze aard vertoont het ultradunne grafiet met hoge porositeit een indrukwekkende sterkte, waardoor het geschikt is voor structurele componenten en dragende toepassingen.

Toepassingen in de productie van halfgeleiders:

Ultradun grafiet met hoge porositeit wordt voornamelijk gebruikt in de halfgeleiderindustrie, vooral in het nieuwe massaoverdrachtsproces. Dit proces maakt gebruik van een nieuw thermisch veld voor massaoverdracht in één doorgang, waardoor de overdrachtsefficiëntie aanzienlijk wordt verbeterd en een constante snelheid wordt gehandhaafd, waardoor de impact van herkristallisatie wordt verminderd (massaoverdracht in dubbele doorgang wordt vermeden) en micro-piping of andere gerelateerde kristaldefecten effectief worden geminimaliseerd. Bovendien helpt poreus grafiet de gasfasecomponenten in evenwicht te brengen, sporenverontreinigingen te isoleren, lokale temperaturen aan te passen en de fysieke inkapseling van deeltjes te verminderen. Door te voldoen aan de eisen voor de bruikbaarheid van kristallen, maakt poreus grafiet een aanzienlijke toename van de kristaldikte mogelijk, waardoor het een sleuteltechnologie wordt voor het aanpakken van de uitdaging van het groeien van dikkere kristallen.