Bovenste halve maan

Semicorex Upper Half Moon is een halfcirkelvormige wafeldrager zorgvuldig ontworpen voor epitaxiale verwerkingsapparatuur. Als een kritische susceptorcomponent in het epitaxiale groeiproces, is dit deel ontworpen om de siliciumwafels te ondersteunen en te stabiliseren tijdens chemische dampafzetting op hoge temperatuur (CVD). Gefabriceerd uit hoogzuiver grafiet en beschermd met een uniforme siliciumcarbide (SIC) coating, de bovenste halve maan combineert mechanische robuustheid, uitstekende thermische geleidbaarheid en uitzonderlijke corrosieweerstand om te voldoen aan de eisen van high-nauwkeurige epitaxie.

Dit product ontleent zijn naam aan zijn verschillende halve maangeometrie, die speciaal is gebouwd voor specifieke rotatieplatforms in epitaxiale reactoren met één wafer of multi-wafer. De unieke vorm vergemakkelijkt niet alleen uniforme gasstroom en thermische verdeling, maar maakt ook eenvoudige integratie mogelijk in bestaande verwarmings- en rotatie -assemblages. Het semi-cirkelvormige ontwerp zorgt voor een optimale wafelpositionering, minimaliseert thermische stress en speelt een sleutelrol bij het bereiken van uniforme epitaxiale filmdikte over het gehele wafeloppervlak.

Het Upper Half Moon-product omvat een substraat van ultra-finale grafiet vanwege de gecombineerde prestatievoordelen van een stabiele ultrafijnstructuur bij extreem hoge temperaturen in combinatie met weerstand tegen falen over herhaalde runs. Om het gebruik uit te breiden, werd een hoge zuivere SIC -coating toegepast door chemische dampdepositietechnologie, het isoleren van het grafietsubstraat van HCL, CL₂, Silaan en andere corrosieve procesgassen. Hoe dan ook, de SIC -coating bevordert een duurzamere en uitgebreidere levensduur van zowel het Upper Half Moon -product als de onderdelen in zijn totaliteit, terwijl zelfs het verminderen van de besmetting van de wafelomgeving, uiteindelijk ten goede aan het procesopbrengst en de filmkwaliteit.

De oppervlakteafwerking van de SIC -laag is gespecificeerd en is plat of glad om constante warmteoverdracht naar een substraat en constante filmvorming te bevorderen. Bovendien verbetert de SIC -coating de weerstand van de componenten tegen het genereren van deeltjes, wat een sleutelfactor is van de gevoelige halfgeleidertoepassingen. Prestatieparameters inclusief zeer lage outgassing en zeer lage vervorming boven 1200 ° C biedt effectieve componenten voor zeer lange werkingscycli, dalende downtime van het systeem en onderhoudskosten.

Semicorex Upper Half Moon is ongeëvenaard met betrekking tot toleranties, coatinguniformiteit en materiaalselectie. We handhaven strikte kwaliteitscontrole bij elke stap, van de grafietbewerking tot de afzetting van SIC -coatings en definitieve inspectie, zodat elke eenheid voldoet aan de rigoureuze normen die nodig zijn voor apparatuur van halfgeleiders. Bovendien wordt onze ervaring met het aanpassen van geometrieën, diktes en oppervlaktebehandelingen erkend om te worden toegepast op bijna alle vormen van epitaxy -platforms.

De bovenste halve maan is van cruciaal belang voor wafelstabiliteit, thermische uniformiteit en verontreinigingscontrole voor silicium- of samengestelde halfgeleider -epitaxie. Dienovereenkomstig maakt semicorex gebruik van ongeëvenaarde expertise, materiaaltechnologie en productie-consistentie om de verwachtingen van de klant te bereiken voor betrouwbare, krachtige susceptorcomponenten.