CVD Coating Waferhouder

Semicorex CVD Coating Wafer Holder is een high-performance onderdeel, ontworpen om wafels te ondersteunen en vast te houden tijdens de precieze groei van halfgeleidermaterialen met behulp van epitaxy-processen. Het is bedekt met tantalum carbide (TAC), wat bijdraagt ​​aan de uitstekende duurzaamheid en betrouwbaarheid in veeleisende omstandigheden.

Belangrijkste kenmerken:

Tantalum carbide coating: Waferhoudercoating met tantaalcarbide (TAC) is te wijten aan de hardheid, slijtvastheid en thermische stabiliteit. Deze coating draagt ​​aanzienlijk bij aan het vermogen van het product om harde chemische omgevingen te weerstaan, evenals hoge temperaturen en vindt het aanbrengen van het dragen van precies wat nodig is door de productie van halfgeleiders.

Superkritische coatingtechnologie: coating wordt toegepast met behulp van een superkritische vloeistofafzettingsmethode die de uniforme en dichte laag TAC garandeert. Geavanceerde coatingtechnologie biedt een betere hechting en defectreductie, waardoor een hoogwaardige, langdurige coating met verzekerde levensduur wordt geleverd.

Coatingdikte: de TAC -coating kan een dikte van maximaal 120 micron bereiken, wat een ideale balans tussen duurzaamheid en precisie biedt. Deze dikte zorgt ervoor dat de wafelhouder hoge temperaturen, drukken en reactieve omgevingen kan weerstaan ​​zonder de structurele integriteit ervan in gevaar te brengen.

Uitstekende thermische stabiliteit: de tantalum carbide-coating biedt uitstekende thermische stabiliteit, waardoor de waferhouder betrouwbaar kan presteren in de hoge temperatuuromstandigheden die typerend zijn voor semiconductor epitaxy-processen. Deze functie is cruciaal voor het handhaven van consistente resultaten en het waarborgen van de kwaliteit van het halfgeleidermateriaal.

Corrosie- en slijtvastheid: de TAC -coating biedt uitstekende weerstand tegen corrosie en slijtage, waardoor de waferhouder blootstelling aan reactieve gassen en chemicaliën kan doorstaan ​​die vaak worden aangetroffen in halfgeleiderprocessen. Deze duurzaamheid verlengt de levensduur van het product en vermindert de behoefte aan frequente vervangingen, waardoor de operationele efficiëntie wordt verbeterd.

Toepassingen:

De CVD -coatingwaferhouder is specifiek ontworpen voor semiconductor epitaxy -processen, waarbij precieze controle en materiaalintegriteit essentieel zijn. Het wordt gebruikt in technieken zoals moleculaire bundelpitaxie (MBE), chemische dampafzetting (CVD) en metaal-organische chemische dampafzetting (MOCVD), waarbij de waferhouder extreme temperaturen en reactieve omgevingen moet weerstaan.

In halfgeleider-epitaxie is precisie cruciaal voor het kweken van hoogwaardige dunne films op een substraat. De CVD-coatingwaferhouder zorgt ervoor dat wafels veilig worden ondersteund en onderhouden onder optimale omstandigheden, wat bijdraagt ​​aan de consistente productie van hoogwaardige halfgeleidermaterialen.

Semicorex CVD Coating Wafer Holder is ontworpen met behulp van geavanceerde materialen en geavanceerde coatingtechnologieën om te voldoen aan de hoge eisen van halfgeleider-epitaxie. Het gebruik van superkritische vloeistofafzetting voor een dikke, uniforme TAC -coating zorgt voor ongeëvenaarde duurzaamheid, precisie en een lange levensduur. Met zijn superieure thermische en chemische weerstand is onze waferhouder ontworpen om betrouwbare prestaties te leveren in de meest uitdagende omgevingen, waardoor de efficiëntie van uw halfgeleiderproductieprocessen wordt verbeterd.