Etsdragerhouder voor PSS-etsen

De etsdragerhouder van Semicorex voor PSS-etsen is ontworpen voor de meest veeleisende toepassingen van epitaxieapparatuur. Onze ultrazuivere grafietdrager is bestand tegen zware omstandigheden, hoge temperaturen en agressieve chemische reiniging. De met SiC gecoate drager heeft uitstekende warmteverdelingseigenschappen, een hoge thermische geleidbaarheid en is kosteneffectief. Onze producten worden veel gebruikt op veel Europese en Amerikaanse markten en we kijken ernaar uit om uw langetermijnpartner in China te worden.

Stuur onderzoek

Productomschrijving

Bij Semicorex hebben we de etsdragerhouder voor PSS-etsen speciaal ontworpen voor de zware omstandigheden die nodig zijn voor epitaxiale groei en waferhanteringsprocessen. Onze ultrazuivere grafietdrager is ideaal voor dunnefilmdepositiefasen zoals MOCVD, epitaxie-susceptors, pannenkoek- of satellietplatforms en verwerking van wafers, zoals etsen. De met SiC gecoate drager heeft een hoge hitte- en corrosieweerstand, uitstekende warmteverdelingseigenschappen en een hoge thermische geleidbaarheid. Onze producten zijn kosteneffectief en bieden een goed prijsvoordeel.

Neem vandaag nog contact met ons op voor meer informatie over onze etsdragerhouder voor PSS-etsen.

Parameters van etsdragerhouder voor PSS-etsen

Belangrijkste specificaties van CVD-SIC-coating
SiC-CVD-eigenschappen
Kristalstructuur	FCC β-fase
Dikte	g/cm³	3.21
Hardheid	Vickers-hardheid	2500
Korrelgrootte	urn	2~10
Chemische zuiverheid	%	99.99995
Warmtecapaciteit	J kg-1 K-1	640
Sublimatie temperatuur	℃	2700
Flexurale kracht	MPa (RT 4-punts)	415
Young's Modulus	Gpa (4pt bocht, 1300℃)	430
Thermische uitzetting (CTE)	10-6K-1	4.5
Thermische geleidbaarheid	(W/mK)	300