MOCVD SiC gecoate grafiet susceptor

Semicorex MOCVD SiC-gecoate grafietsusceptor is een geavanceerd en gespecialiseerd onderdeel dat wordt gebruikt in het Metal-Organic Chemical Vapour Deposition-proces, een cruciale techniek bij de productie van halfgeleiders, opto-elektronische apparaten en andere geavanceerde materialen. Deze susceptor speelt een cruciale rol bij het met precisie en efficiëntie faciliteren van de groei van dunne films en epitaxiale lagen.

De MOCVD SiC gecoate grafiet susceptor is gemaakt van hoogwaardig grafiet, gekozen vanwege zijn thermische stabiliteit en uitstekende thermische geleidbaarheid. De inherente eigenschappen van grafiet maken het een ideaal materiaal om de veeleisende omstandigheden in een MOCVD-reactor te weerstaan. Om de prestaties te verbeteren en de levensduur te verlengen, is de grafiet susceptor zorgvuldig gecoat met een laag siliciumcarbide (SiC).

De MOCVD SiC-gecoate grafietsusceptor is een sleutelcomponent op het gebied van de productie van halfgeleiders en belichaamt de samensmelting van geavanceerde materialen en precisietechniek. De duurzaamheid, thermische efficiëntie en beschermende eigenschappen maken het tot een onmisbaar element in de zoektocht naar hoogwaardige, reproduceerbare dunne films en epitaxiale lagen die essentieel zijn voor de fabricage van geavanceerde elektronische en opto-elektronische apparaten.