Pannenkoekenhouder met SiC-coating

SemicorexSiC-coatingPancake Susceptor is een onderdeel van de volgende generatie bedoeld voor installatie in MOCVD-systemen met metaalorganische chemische dampafzetting. Deze systemen vormen een belangrijk onderdeel van het mechanisme waarmee epitaxiale lagen op een grote verscheidenheid aan substraten worden afgezet. De hier getoonde speciale susceptor is uitsluitend bedoeld voor halfgeleidertoepassingen, voornamelijk voor de fabricage van LED's, apparaten met hoog vermogen en RF-apparaten. De substraten die in deze toepassingen worden gebruikt, hebben vaak een epitaxiale laag nodig die kan worden gevormd op materialen zoals saffier of geleidend en semi-isolerend SiC. Deze Pancake Susceptor met SiC-coating levert uitstekende prestaties in MOCVD-reactoren met afzettingen die efficiënt, betrouwbaar en nauwkeurig zijn.

Het staat in de halfgeleiderindustrie bekend om zijn uitstekende materiaaleigenschappen, solide constructie en de mogelijkheid om aan te passen voor specifieke MOCVD-processen. Omdat de vraag naar hoogwaardige epitaxiale lagen toeneemt in stroom- en RF-toepassingen, garandeert de keuze voor Semicorex u een topproduct dat optimale prestaties en een lange levensduur biedt. Deze susceptor is een basis voor halfgeleiderwafels en is van toepassing tijdens het proces van het afzetten van epitaxiale lagen op halfgeleiders. De lagen kunnen worden gebruikt voor de vervaardiging van apparaten die LED's, HEMT's en vermogenshalfgeleiderapparaten zoals SBD's en MOSFET's omvatten. Dergelijke apparaten zijn van cruciaal belang voor moderne communicatie- en krachtige elektronische en opto-elektronische toepassingen.

Kenmerken en voordelen

1. Hoge thermische geleidbaarheid en uniforme warmteverdeling

Een van de belangrijkste kenmerken van de SiC Coating Pancake Susceptor is de uitzonderlijke thermische geleidbaarheid. Het materiaal zorgt voor een uniforme warmteverdeling tijdens het MOCVD-proces, wat cruciaal is voor de gelijkmatige groei van epitaxiale lagen op halfgeleiderwafels. De hoge thermische geleidbaarheid zorgt ervoor dat het wafersubstraat gelijkmatig wordt verwarmd, waardoor temperatuurgradiënten worden geminimaliseerd en de kwaliteit van de afgezette lagen wordt verbeterd. Dit resulteert in verbeterde uniformiteit, betere materiaaleigenschappen en een algehele hogere opbrengst.

2. SiC-coatingvoor verbeterde duurzaamheid

SiC-coating biedt een robuuste oplossing voor de slijtage en degradatie van de grafiet susceptor tijdens het MOCVD-proces. De coating biedt een hoge weerstand tegen corrosie door de metaal-organische voorlopers die worden gebruikt in het depositieproces, waardoor de levensduur van de susceptor aanzienlijk wordt verlengd. Bovendien voorkomt de SiC-laag dat grafietstof de wafer vervuilt, een kritische factor bij het waarborgen van de integriteit en zuiverheid van de epitaxiale lagen.

De coating verbetert ook de algehele mechanische sterkte van de susceptor, waardoor deze beter bestand is tegen hoge temperaturen, thermische cycli en mechanische spanningen die gebruikelijk zijn bij het MOCVD-proces. Dit leidt tot een langere levensduur en lagere onderhoudskosten.

3. Hoog smeltpunt en oxidatieweerstand

De SiC Coating Pancake Susceptor is ontworpen om te werken onder extreme temperaturen, waarbij de SiC-coating weerstand biedt tegen oxidatie en corrosie bij hoge temperaturen. Dankzij het hoge smeltpunt van de coating kan de susceptor de verhoogde temperaturen verdragen die typisch zijn voor MOCVD-reactoren zonder de structurele integriteit ervan aan te tasten of te verliezen. Deze eigenschap is vooral belangrijk bij het garanderen van betrouwbaarheid op lange termijn in halfgeleiderproductieomgevingen met hoge doorvoer.

4. Uitstekende vlakheid van het oppervlak

De vlakheid van het oppervlak van de SiC Coating Pancake Susceptor is van cruciaal belang voor de juiste positionering en uniforme verwarming van de wafels tijdens het epitaxiale groeiproces. De coating zorgt voor een glad, vlak oppervlak dat ervoor zorgt dat de wafer gelijkmatig op zijn plaats wordt gehouden, waardoor inconsistenties in het depositieproces worden vermeden. Dit hoge niveau van vlakheid is vooral belangrijk bij de groei van uiterst nauwkeurige apparaten zoals LED's en vermogenshalfgeleiders, waarbij uniformiteit essentieel is voor de prestaties van apparaten.

5. Hoge hechtsterkte en thermische compatibiliteit

De hechtsterkte tussen de SiC-coating en het grafietsubstraat wordt verbeterd door de thermische compatibiliteit van het materiaal. De thermische uitzettingscoëfficiënten van zowel de SiC-laag als de grafietbasis zijn nauw op elkaar afgestemd, waardoor het risico op barsten of delaminatie bij temperatuurwisselingen wordt verminderd. Deze eigenschap is essentieel voor het behouden van de structurele integriteit van de susceptor tijdens de repetitieve verwarmings- en koelcycli in het MOCVD-proces.

6. Aanpasbaar voor verschillende toepassingen

Semicorex begrijpt de uiteenlopende behoeften van de halfgeleiderindustrie en de SiC Coating Pancake Susceptor kan worden aangepast om aan specifieke procesvereisten te voldoen. Of het nu gaat om gebruik bij de productie van LED's, de fabricage van elektrische apparaten of de productie van RF-componenten, de susceptor kan worden aangepast aan verschillende wafergroottes, vormen en thermische vereisten. Deze flexibiliteit zorgt ervoor dat de SiC Coating Pancake Susceptor geschikt is voor een breed scala aan toepassingen in de halfgeleiderindustrie.

Toepassing in de productie van halfgeleiders

De SiC Coating Pancake Susceptor wordt voornamelijk gebruikt in MOCVD-systemen, een essentiële technologie voor de groei van hoogwaardige epitaxiale lagen. De susceptor ondersteunt verschillende halfgeleidersubstraten, waaronder saffier, siliciumcarbide (SiC) en GaN, die worden gebruikt voor de productie van apparaten zoals LED's, vermogenshalfgeleiderapparaten en RF-apparaten. Het superieure thermische beheer en de duurzaamheid van de SiC Coating Pancake Susceptor zorgen ervoor dat deze apparaten worden vervaardigd om te voldoen aan de veeleisende prestatie-eisen van moderne elektronica.

Bij de LED-productie wordt de SiC Coating Pancake Susceptor gebruikt om GaN-lagen op saffiersubstraten te laten groeien, waarbij de hoge thermische geleidbaarheid ervoor zorgt dat de epitaxiale laag uniform en vrij van defecten is. Voor stroomapparaten, zoals MOSFET's en SBD's, speelt de susceptor een cruciale rol bij de groei van epitaxiale SiC-lagen, die essentieel zijn voor het verwerken van hoge stromen en spanningen. Op dezelfde manier ondersteunt de SiC Coating Pancake Susceptor bij de productie van RF-apparaten de groei van GaN-lagen op semi-isolerende SiC-substraten, waardoor de fabricage van HEMT's die in communicatiesystemen worden gebruikt, mogelijk wordt gemaakt.

Door Semicorex te kiezen voor uw SiC Coating Pancake Susceptor-behoeften, bent u er zeker van dat u een product krijgt dat niet alleen voldoet aan de industrienormen voor kwaliteit, prestaties en duurzaamheid, maar deze zelfs overtreft. Met een focus op precisietechniek, superieure materiaalkeuze en aanpasbaarheid zijn de producten van Semicorex ontworpen om optimale prestaties te leveren in MOCVD-systemen. Onze susceptor helpt uw ​​productieproces te stroomlijnen, zorgt voor epitaxiale lagen van hoge kwaliteit en minimaliseert de stilstandtijd. Met Semicorex krijgt u een betrouwbare partner die zich inzet voor uw succes in de halfgeleiderproductie.