MOCVD Susceptor met TaC-coating

Semicorex MOCVD Susceptor met TaC-coating is gemaakt van zorgvuldig geselecteerd grafiet, gekozen vanwege zijn uitzonderlijke eigenschappen om hoge prestaties en duurzaamheid te garanderen. Grafiet staat bekend om zijn uitstekende thermische en elektrische geleidbaarheid, evenals zijn vermogen om de hoge temperaturen te weerstaan ​​die kenmerkend zijn voor MOCVD-processen. Het belangrijkste kenmerk van deze MOCVD Susceptor ligt in de TaC-coating. Tantaalcarbide is een vuurvast keramisch materiaal dat bekend staat om zijn uitzonderlijke hardheid, chemische inertie en thermische stabiliteit. Door de grafiet susceptor te coaten met TaC, bereiken we een component die niet alleen bestand is tegen de veeleisende omstandigheden van MOCVD-processen, maar ook de algehele prestaties en duurzaamheid van het systeem verbetert.

De MOCVD Susceptor met TaC Coating zorgt voor een sterke hechting tussen de coating en het grafietsubstraat. De zorgvuldige selectie van grafiet speelt hierbij een cruciale rol. De thermische uitzettingscoëfficiënt (CTE) van het gekozen grafiet dat wordt gebruikt in onze MOCVD Susceptor met TaC-coating komt nauw overeen met die van de TaC-coating. Deze nauwe match in CTE-waarden minimaliseert de thermische spanningen die kunnen optreden tijdens de snelle verwarmings- en koelcycli die typisch zijn voor MOCVD-processen. Als gevolg hiervan hecht de TaC-coating robuuster aan het grafietsubstraat, waardoor de mechanische integriteit en levensduur van de susceptor aanzienlijk worden verbeterd.

De MOCVD-susceptor met TaC-coating is zeer duurzaam en is bestand tegen de mechanische spanningen en zware omstandigheden van het MOCVD-proces zonder te verslechteren. Deze duurzaamheid is essentieel voor het behouden van de precieze geometrie en oppervlaktekwaliteit die nodig zijn voor epitaxiale groei met hoge opbrengst. De robuuste TaC-coating verlengt ook de operationele levensduur van de susceptor, waardoor de frequentie van vervangingen wordt verminderd en de totale kosten van het bezit van een MOCVD-systeem worden verlaagd.

Dankzij de thermische stabiliteit van TaC kan de MOCVD Susceptor met TaC-coating werken bij de hoge temperaturen die nodig zijn voor efficiënte MOCVD-processen. Dit betekent dat de MOCVD-susceptor met TaC-coating een breed scala aan depositieprocessen kan ondersteunen, van GaN-groei bij lage temperatuur tot SiC-epitaxie bij hoge temperatuur, waardoor het een waardevol onderdeel is voor halfgeleiderfabrikanten die hun MOCVD-systemen voor verschillende toepassingen willen optimaliseren.

De Semicorex MOCVD-susceptor met TaC-coating vertegenwoordigt een aanzienlijke vooruitgang in de epitaxie van halfgeleiders. Door de eigenschappen van grafiet en TaC te combineren, hebben we een susceptor ontwikkeld die niet alleen voldoet aan de eisen van moderne MOCVD-processen, maar deze zelfs overtreft. De nauw op elkaar afgestemde thermische uitzettingscoëfficiënten (CTE) tussen het grafietsubstraat en de TaC-coating zorgen voor een sterke hechting, terwijl de uitzonderlijke hardheid, chemische inertheid en thermische stabiliteit van TaC ongeëvenaarde bescherming en duurzaamheid bieden. Dit resulteert in een susceptor die superieure prestaties levert, de kwaliteit van epitaxiale groei verbetert en de operationele levensduur van MOCVD-systemen verlengt. Fabrikanten van halfgeleiders kunnen vertrouwen op onze MOCVD Susceptor met TaC-coating om hogere opbrengsten, lagere kosten en grotere procesflexibiliteit te bereiken, waardoor het een essentieel onderdeel wordt in het nastreven van technologische innovatie en uitmuntendheid in de productie van halfgeleiders.