Semicorex SiC gecoate vat susceptor voor LPE epitaxiale groei is een hoogwaardig product dat is ontworpen om consistente en betrouwbare prestaties te leveren gedurende een langere periode. Het gelijkmatige thermische profiel, het laminaire gasstroompatroon en het voorkomen van verontreiniging maken het een ideale keuze voor de groei van hoogwaardige epitaxiale lagen op waferchips. De aanpasbaarheid en kosteneffectiviteit maken het tot een zeer concurrerend product op de markt.
Lees verderStuur onderzoekSemicorex Barrel Susceptor Epi System is een hoogwaardig product dat superieure coatinghechting, hoge zuiverheid en oxidatieweerstand bij hoge temperaturen biedt. Het gelijkmatige thermische profiel, het laminaire gasstroompatroon en het voorkomen van verontreiniging maken het een ideale keuze voor de groei van epixiale lagen op waferchips. De kosteneffectiviteit en aanpasbaarheid maken het tot een zeer concurrerend product op de markt.
Lees verderStuur onderzoekSemicorex Liquid Phase Epitaxy (LPE) Reactorsysteem is een innovatief product dat uitstekende thermische prestaties, een gelijkmatig thermisch profiel en superieure coatinghechting biedt. De hoge zuiverheid, oxidatieweerstand bij hoge temperaturen en corrosieweerstand maken het een ideale keuze voor gebruik in de halfgeleiderindustrie. De aanpasbare opties en kosteneffectiviteit maken het tot een zeer concurrerend product op de markt.
Lees verderStuur onderzoekSemicorex CVD Epitaxiale Depositie In Barrel Reactor is een zeer duurzaam en betrouwbaar product voor het kweken van epixiale lagen op waferchips. De oxidatieweerstand bij hoge temperaturen en de hoge zuiverheid maken het geschikt voor gebruik in de halfgeleiderindustrie. Het gelijkmatige thermische profiel, het laminaire gasstroompatroon en het voorkomen van besmetting maken het een ideale keuze voor hoogwaardige groei van epixiale lagen.
Lees verderStuur onderzoekAls u een hoogwaardige grafiet susceptor nodig heeft voor gebruik in halfgeleiderproductietoepassingen, is de Semicorex Silicon Epitaxial Deposition In Barrel Reactor de ideale keuze. De zeer zuivere SiC-coating en uitzonderlijke thermische geleidbaarheid bieden superieure beschermings- en warmteverdelingseigenschappen, waardoor het de beste keuze is voor betrouwbare en consistente prestaties, zelfs in de meest uitdagende omgevingen.
Lees verderStuur onderzoekAls u een grafiet susceptor nodig heeft met uitzonderlijke thermische geleidbaarheid en warmteverdelingseigenschappen, hoeft u niet verder te zoeken dan het Semicorex Inductief verwarmde vat Epi-systeem. De zeer zuivere SiC-coating biedt superieure bescherming in omgevingen met hoge temperaturen en corrosie, waardoor het de ideale keuze is voor gebruik in halfgeleiderproductietoepassingen.
Lees verderStuur onderzoek