Semicorex SiC Wafer Chuck staat als een hoogtepunt van innovatie in de productie van halfgeleiders en dient als een cruciaal onderdeel in het ingewikkelde proces van de fabricage van halfgeleiders. Deze spantang is vervaardigd met nauwgezette precisie en geavanceerde technologie en speelt een onmisbare rol bij het ondersteunen en stabiliseren van siliciumcarbidewafels (SiC) tijdens verschillende productiefasen. Semicorex streeft ernaar kwaliteitsproducten te leveren tegen concurrerende prijzen. We kijken ernaar uit om uw langetermijnpartner in China te worden.
De kern van SiC Wafer Chuck bestaat uit een verfijnde mix van materialen, waarbij de basis is opgebouwd uit grafiet en zorgvuldig is gecoat met Chemical Vapour Deposition (CVD) SiC. Deze combinatie van grafiet- en SiC-coating zorgt niet alleen voor uitzonderlijke duurzaamheid en thermische stabiliteit, maar biedt ook een ongeëvenaarde weerstand tegen agressieve chemische omgevingen, waardoor de integriteit van de delicate halfgeleiderwafels gedurende het hele productieproces wordt gewaarborgd.
De SiC-waferhouder beschikt over een uitzonderlijke thermische geleidbaarheid, waardoor een efficiënte warmteafvoer tijdens het fabricageproces van halfgeleiders wordt vergemakkelijkt. Deze mogelijkheid minimaliseert thermische gradiënten over het waferoppervlak, waardoor een uniforme temperatuurverdeling wordt gegarandeerd die cruciaal is voor het bereiken van nauwkeurige halfgeleidereigenschappen. Door de integratie van CVD SiC-coating vertoont de SiC Wafer Chuck opmerkelijke mechanische sterkte en stijfheid, waardoor hij bestand is tegen de veeleisende omstandigheden die zich voordoen tijdens de waferverwerking. Deze robuustheid minimaliseert het risico op vervorming of schade, waarborgt de integriteit van de halfgeleiderwafels en maximaliseert de productieopbrengsten.
Elke SiC-waferhouder ondergaat een nauwgezette precisiebewerking, waardoor nauwe toleranties en optimale vlakheid over het oppervlak worden gegarandeerd. Deze precisie is van cruciaal belang voor het bereiken van een uniform contact tussen de spankop en de halfgeleiderwafel, waardoor een betrouwbare waferklemming mogelijk wordt en consistente verwerkingsresultaten worden gegarandeerd.
De SiC-wafelhouder vindt wijdverspreide toepassing in verschillende productieprocessen van halfgeleiders, waaronder epitaxiale groei, chemische dampafzetting (CVD) en thermische verwerking. De veelzijdigheid en betrouwbaarheid maken het onmisbaar voor het ondersteunen van SiC-wafels tijdens kritische fabricagestappen, wat uiteindelijk bijdraagt aan de productie van geavanceerde halfgeleiderapparaten met ongeëvenaarde prestaties en betrouwbaarheid.