Producten

Semicorex is een professionele fabrikant en leverancier in China. Onze fabriek levert vat susceptor, mocvd susceptor, waferboot, enz. Extreem ontwerp, hoogwaardige grondstoffen, hoge prestaties en een concurrerende prijs zijn wat elke klant wil, en dat is ook wat wij u kunnen bieden. Wij nemen hoge kwaliteit, redelijke prijs en perfecte service.

View as

SiC-gecoate RTP-dragerplaat voor epitaxiale groei

Semicorex SiC-gecoate RTP-draagplaat voor epitaxiale groei is de perfecte oplossing voor toepassingen voor de verwerking van halfgeleiderwafels. Met zijn hoogwaardige koolstofgrafietkroezen en kwartskroezen verwerkt door MOCVD op het oppervlak van grafiet, keramiek, enz., is dit product ideaal voor het hanteren van wafels en epitaxiale groeiverwerking. De met SiC gecoate drager zorgt voor een hoge thermische geleidbaarheid en uitstekende warmteverdelingseigenschappen, waardoor het een betrouwbare keuze is voor RTA, RTP of agressieve chemische reiniging.

Lees verder Stuur onderzoek

RTP RTA SiC-gecoate drager

Semicorex is een grootschalige fabrikant en leverancier van siliciumcarbide gecoate grafiet susceptor in China. Semicorex grafiet susceptor speciaal ontworpen voor epitaxieapparatuur met hoge hitte- en corrosieweerstand in China. Onze RTP RTA SiC Coated Carrier heeft een goed prijsvoordeel en bestrijkt veel van de Europese en Amerikaanse markten. Wij kijken ernaar uit om uw langetermijnpartner te worden.

Lees verder Stuur onderzoek

RTP-drager voor MOCVD epitaxiale groei

Semicorex RTP Carrier voor MOCVD Epitaxiale groei is ideaal voor toepassingen voor de verwerking van halfgeleiderwafels, inclusief epitaxiale groei en verwerking van wafels. Koolstofgrafietkroezen en kwartskroezen worden door MOCVD verwerkt op het oppervlak van grafiet, keramiek, enz. Onze producten hebben een goed prijsvoordeel en bestrijken veel van de Europese en Amerikaanse markten. We kijken ernaar uit om uw langetermijnpartner in China te worden.

Lees verder Stuur onderzoek

SiC-gecoate ICP-component

De SiC-gecoate ICP-component van Semicorex is speciaal ontworpen voor waferbehandelingsprocessen bij hoge temperaturen, zoals epitaxie en MOCVD. Met een fijne SiC-kristalcoating bieden onze dragers superieure hittebestendigheid, gelijkmatige thermische uniformiteit en duurzame chemische bestendigheid.

Lees verder Stuur onderzoek

SiC-coating voor hoge temperaturen voor plasma-etskamers

Als het gaat om waferbehandelingsprocessen zoals epitaxie en MOCVD, is de hoge temperatuur SiC-coating van Semicorex voor plasma-etskamers de beste keuze. Onze dragers bieden superieure hittebestendigheid, gelijkmatige thermische uniformiteit en duurzame chemische bestendigheid dankzij onze fijne SiC-kristalcoating.

Lees verder Stuur onderzoek

ICP-plasma-etsbak

De ICP-plasma-etsbak van Semicorex is speciaal ontworpen voor waferbehandelingsprocessen bij hoge temperaturen, zoals epitaxie en MOCVD. Met een stabiele oxidatieweerstand bij hoge temperaturen tot 1600 °C bieden onze dragers gelijkmatige thermische profielen en laminaire gasstroompatronen en voorkomen ze vervuiling of verspreiding van onzuiverheden.

Lees verder Stuur onderzoek

<...114 115 116 117 118...123 >