Vat susceptor met SiC-coating

Semicorex Barrel Susceptor met SiC-coating is een geavanceerde oplossing die is ontworpen om de efficiëntie en precisie van epitaxiale siliciumprocessen te verbeteren. Deze vatsusceptor met SiC-coating is vervaardigd met nauwgezette aandacht voor detail en is op maat gemaakt om te voldoen aan de veeleisende eisen van de halfgeleiderproductie. Hij dient als de optimale waferhouder en vergemakkelijkt de naadloze overdracht van warmte naar wafers. Semicorex streeft ernaar kwaliteitsproducten te leveren tegen concurrerende prijzen. We kijken ernaar uit om uw langetermijnpartner in China te worden.

Stuur onderzoek

Productomschrijving

Onze Barrel Susceptor met SiC-coating is gemaakt van hoogwaardig isostatisch grafiet, bekend om zijn uitzonderlijke thermische geleidbaarheid en duurzaamheid, en garandeert betrouwbare prestaties en een lange levensduur in de meest veeleisende omgevingen. Bovendien is de Barrel Susceptor met SiC-coating voorzien van een gespecialiseerde siliciumcarbide (SiC)-coating, die de thermische stabiliteit verbetert en een uniforme warmteverdeling over het waferoppervlak garandeert.

Het tonvormige ontwerp van onze Barrel Susceptor met SiC-coating biedt ongeëvenaarde veelzijdigheid, perfect geschikt voor integratie met Applied Material- en LPE-units. De innovatieve configuratie optimaliseert het epitaxiale groeiproces en bevordert bij elk gebruik consistente en hoogwaardige resultaten.

Belangrijkste kenmerken van Semicorex Barrel Susceptor met SiC-coating:

De isostatische grafietconstructie zorgt voor uitzonderlijke thermische geleidbaarheid en duurzaamheid.

Siliciumcarbide (SiC) coating verbetert de thermische stabiliteit en bevordert een uniforme warmteverdeling.

Tonvormig ontwerp biedt veelzijdigheid en compatibiliteit met Applied Material- en LPE-eenheden.

Aangepast om te voldoen aan de specifieke eisen van epitaxiale siliciumprocessen, waardoor optimale prestaties en betrouwbaarheid worden gegarandeerd.