De SiC-plaat van Semicorex voor het ICP-etsproces is de perfecte oplossing voor hoge temperaturen en zware chemische verwerkingsvereisten bij het afzetten van dunne films en het hanteren van wafers. Ons product beschikt over superieure hittebestendigheid en gelijkmatige thermische uniformiteit, waardoor een consistente dikte en weerstand van de epilaag wordt gegarandeerd. Met een schoon en glad oppervlak zorgt onze uiterst zuivere SiC-kristalcoating voor een optimale verwerking van onberispelijke wafels.
Lees verderStuur onderzoekSemicorex SiC gecoate ICP-etsdrager speciaal ontworpen voor epitaxieapparatuur met hoge hitte- en corrosieweerstand in China. Onze producten hebben een goed prijsvoordeel en bestrijken een groot deel van de Europese en Amerikaanse markten. We kijken ernaar uit om uw langetermijnpartner in China te worden.
Lees verderStuur onderzoekDe etsdragerhouder van Semicorex voor PSS-etsen is ontworpen voor de meest veeleisende toepassingen van epitaxieapparatuur. Onze ultrazuivere grafietdrager is bestand tegen zware omstandigheden, hoge temperaturen en agressieve chemische reiniging. De met SiC gecoate drager heeft uitstekende warmteverdelingseigenschappen, een hoge thermische geleidbaarheid en is kosteneffectief. Onze producten worden veel gebruikt op veel Europese en Amerikaanse markten en we kijken ernaar uit om uw langetermijnpartner in China te worden.
Lees verderStuur onderzoekDe PSS Handling Carrier voor Wafer Transfer van Semicorex is ontworpen voor de meest veeleisende toepassingen van epitaxieapparatuur. Onze ultrazuivere grafietdrager is bestand tegen zware omstandigheden, hoge temperaturen en agressieve chemische reiniging. De met SiC gecoate drager heeft uitstekende warmteverdelingseigenschappen, een hoge thermische geleidbaarheid en is kosteneffectief. Onze producten worden veel gebruikt op veel Europese en Amerikaanse markten en we kijken ernaar uit om uw langetermijnpartner in China te worden.
Lees verderStuur onderzoekDe Silicon Etch Plate van Semicorex voor PSS-etstoepassingen is een hoogwaardige, ultrazuivere grafietdrager die speciaal is ontworpen voor epitaxiale groei en waferhanteringsprocessen. Onze drager is bestand tegen zware omstandigheden, hoge temperaturen en agressieve chemische reiniging. De siliciumetsplaat voor PSS-etstoepassingen heeft uitstekende warmteverdelingseigenschappen, een hoge thermische geleidbaarheid en is kosteneffectief. Onze producten worden veel gebruikt op veel Europese en Amerikaanse markten en we kijken ernaar uit om uw langetermijnpartner in China te worden.
Lees verderStuur onderzoekDe PSS-etsdragertray voor waferverwerking van Semicorex is speciaal ontworpen voor de veeleisende toepassingen van epitaxieapparatuur. Onze ultrazuivere grafietdrager is ideaal voor dunnefilmdepositiefasen zoals MOCVD, epitaxie-susceptors, pannenkoek- of satellietplatforms en verwerking van wafers, zoals etsen. De PSS-etsdraagbak voor waferverwerking heeft een hoge hitte- en corrosieweerstand, uitstekende warmteverdelingseigenschappen en een hoge thermische geleidbaarheid. Onze producten zijn kosteneffectief en hebben een goed prijsvoordeel. We bedienen veel Europese en Amerikaanse markten en kijken ernaar uit om uw langetermijnpartner in China te worden.
Lees verderStuur onderzoek