Bij Semicorex hebben we de PSS Etching Carrier Tray voor LED speciaal ontworpen voor de zware omstandigheden die nodig zijn voor epitaxiale groei en waferhanteringsprocessen. Onze ultrazuivere grafietdrager is ideaal voor dunnefilmdepositiefasen zoals MOCVD, epitaxie-susceptors, pannenkoek- of satellietplatforms en verwerking van wafers, zoals etsen. De met SiC gecoate drager heeft een hoge hitte- en corrosieweerstand, uitstekende warmteverdelingseigenschappen en een hoge thermische geleidbaarheid. Onze PSS Etching Carrier Tray voor LED is kosteneffectief en biedt een goed prijsvoordeel. We bedienen veel Europese en Amerikaanse markten en kijken ernaar uit om uw langetermijnpartner in China te worden.
Lees verderStuur onderzoekSemicorex PSS Etching Carrier Plate for Semiconductor is speciaal ontworpen voor hoge temperaturen en agressieve chemische reinigingsomgevingen die nodig zijn voor epitaxiale groei en waferhanteringsprocessen. Onze ultrazuivere PSS-etsdraagplaat voor halfgeleiders is ontworpen om wafers te ondersteunen tijdens dunnefilmdepositiefasen zoals MOCVD- en epitaxiale susceptors, pannenkoek- of satellietplatforms. Onze met SiC gecoate drager heeft een hoge hitte- en corrosieweerstand, uitstekende warmteverdelingseigenschappen en een hoge thermische geleidbaarheid. Wij bieden kosteneffectieve oplossingen aan onze klanten en onze producten bestrijken vele Europese en Amerikaanse markten. Semicorex kijkt ernaar uit om uw langetermijnpartner in China te zijn.
Lees verderStuur onderzoekWaferdragers die worden gebruikt bij epixiale groei en verwerking van wafers moeten hoge temperaturen en agressieve chemische reiniging doorstaan. Semicorex SiC gecoate PSS-etsdrager speciaal ontworpen voor deze veeleisende epitaxieapparatuurtoepassingen. Onze producten hebben een goed prijsvoordeel en bestrijken een groot deel van de Europese en Amerikaanse markten. We kijken ernaar uit om uw langetermijnpartner in China te worden.
Lees verderStuur onderzoekSemicorex SiC gecoate vat susceptor voor LPE epitaxiale groei is een hoogwaardig product dat is ontworpen om consistente en betrouwbare prestaties te leveren gedurende een langere periode. Het gelijkmatige thermische profiel, het laminaire gasstroompatroon en het voorkomen van verontreiniging maken het een ideale keuze voor de groei van hoogwaardige epitaxiale lagen op waferchips. De aanpasbaarheid en kosteneffectiviteit maken het tot een zeer concurrerend product op de markt.
Lees verderStuur onderzoekSemicorex Barrel Susceptor Epi System is een hoogwaardig product dat superieure coatinghechting, hoge zuiverheid en oxidatieweerstand bij hoge temperaturen biedt. Het gelijkmatige thermische profiel, het laminaire gasstroompatroon en het voorkomen van verontreiniging maken het een ideale keuze voor de groei van epixiale lagen op waferchips. De kosteneffectiviteit en aanpasbaarheid maken het tot een zeer concurrerend product op de markt.
Lees verderStuur onderzoekSemicorex Liquid Phase Epitaxy (LPE) Reactorsysteem is een innovatief product dat uitstekende thermische prestaties, een gelijkmatig thermisch profiel en superieure coatinghechting biedt. De hoge zuiverheid, oxidatieweerstand bij hoge temperaturen en corrosieweerstand maken het een ideale keuze voor gebruik in de halfgeleiderindustrie. De aanpasbare opties en kosteneffectiviteit maken het tot een zeer concurrerend product op de markt.
Lees verderStuur onderzoek