> Producten

Producten

Nieuwe Producten

View as

SiC-schijfontvanger

Semicorex introduceert zijn SiC Disc Susceptor, ontworpen om de prestaties van Epitaxy-, Metal-Organic Chemical Vapour Deposition (MOCVD) en Rapid Thermal Processing (RTP)-apparatuur te verbeteren. De zorgvuldig ontworpen SiC Disc Susceptor biedt eigenschappen die superieure prestaties, duurzaamheid en efficiëntie garanderen in omgevingen met hoge temperaturen en vacuüm.**

Lees verder Stuur onderzoek

Grafiet thermisch veld

Semicorex Graphite Thermal Field combineert baanbrekende materiaalwetenschap met een diepgaand begrip van kristalgroeiprocessen en levert een innovatieve oplossing die de halfgeleiderindustrie in staat stelt nieuwe niveaus van prestaties, efficiëntie en kosteneffectiviteit te bereiken.**

Lees verder Stuur onderzoek

LPE SiC-Epi Halfmoon

Semicorex LPE SiC-Epi Halfmoon is een onmisbare aanwinst in de wereld van epitaxie en biedt een robuuste oplossing voor de uitdagingen die gepaard gaan met hoge temperaturen, reactieve gassen en strenge zuiverheidseisen.**

Lees verder Stuur onderzoek

CVD TaC-coatingafdekking

Semicorex CVD TaC Coating Cover is een cruciale technologie aan het worden in de veeleisende omgevingen binnen epitaxiereactoren, gekenmerkt door hoge temperaturen, reactieve gassen en strenge zuiverheidseisen, waardoor robuuste materialen nodig zijn om consistente kristalgroei te garanderen en ongewenste reacties te voorkomen.**

Lees verder Stuur onderzoek

Grafiet Single Silicon Trekgereedschappen

Semicorex Graphite Single Silicon Pulling Tools verschijnen als onbezongen helden in de vurige smeltkroes van kristalgroeiovens, waar de temperaturen stijgen en precisie de boventoon voert. Hun opmerkelijke eigenschappen, aangescherpt door innovatieve productie, maken ze essentieel voor het tot stand brengen van onberispelijk monokristallijn silicium.**

Lees verder Stuur onderzoek

Geleidingsring met TaC-coating

Semicorex TaC Coating Guide Ring fungeert als een essentieel onderdeel binnen apparatuur voor metaal-organische chemische dampafzetting (MOCVD), waardoor de nauwkeurige en stabiele levering van precursorgassen tijdens het epitaxiale groeiproces wordt gegarandeerd. De TaC Coating Guide Ring vertegenwoordigt een reeks eigenschappen die hem ideaal maken om de extreme omstandigheden in de MOCVD-reactorkamer te weerstaan.**

Lees verder Stuur onderzoek

<...78 79 80 81 82...144 >