Geleidingsring met TaC-coating

Functie vanGeleidingsring met TaC-coating:

Nauwkeurige gasstroomregeling:De TaC Coating Guide Ring is strategisch gepositioneerd binnen het gasinjectiesysteem van de MOCVD-reactor. zijn primaire functie is het sturen van de stroom precursorgassen en het verzekeren van hun uniforme verdeling over het substraatwafeloppervlak. Deze nauwkeurige controle over de gasstroomdynamiek is essentieel voor het bereiken van uniforme epitaxiale laaggroei en gewenste materiaaleigenschappen.

Thermisch beheer:De TaC Coating Guide Ring werkt vaak bij verhoogde temperaturen vanwege de nabijheid van de verwarmde susceptor en het substraat. De uitstekende thermische geleidbaarheid van TaC helpt de warmte effectief af te voeren, waardoor plaatselijke oververhitting wordt voorkomen en een stabiel temperatuurprofiel binnen de reactiezone wordt gehandhaafd.

Voordelen van TaC in MOCVD:

Extreme temperatuurbestendigheid:TaC beschikt over een van de hoogste smeltpunten van alle materialen, namelijk meer dan 3800°C. 

Uitstekende chemische inertie:TaC vertoont een uitzonderlijke weerstand tegen corrosie en chemische aantasting door de reactieve precursorgassen die in MOCVD worden gebruikt, zoals ammoniak, silaan en verschillende metaal-organische verbindingen.

Corrosiebestendigheid Vergelijking van TaC en SiC

Lage thermische uitzetting:De lage thermische uitzettingscoëfficiënt van TaC minimaliseert maatveranderingen als gevolg van temperatuurschommelingen tijdens het MOCVD-proces. 

Hoge slijtvastheid:De hardheid en duurzaamheid van TaC bieden uitstekende weerstand tegen slijtage door de constante stroom gassen en potentiële deeltjes binnen het MOCVD-systeem. 

Voordelen voor MOCVD-prestaties:

Het gebruik van Semicorex TaC Coating Guide Ring in MOCVD-apparatuur draagt ​​aanzienlijk bij aan:

Verbeterde epitaxiale laaguniformiteit:Nauwkeurige gasstroomregeling, mogelijk gemaakt door de TaC Coating Guide Ring, zorgt voor een uniforme verdeling van de precursor, wat resulteert in een zeer uniforme groei van de epitaxiale laag met een consistente dikte en samenstelling.

Verbeterde processtabiliteit:De thermische stabiliteit en chemische inertheid van TaC dragen bij aan een stabielere en gecontroleerde reactieomgeving binnen de MOCVD-kamer, waardoor procesvariaties worden geminimaliseerd en de reproduceerbaarheid wordt verbeterd.

Verhoogde beschikbaarheid van apparatuur:De duurzaamheid en langere levensduur van de TaC Coating Guide Ring verminderen de noodzaak van frequente vervangingen, waardoor de stilstandtijd voor onderhoud wordt geminimaliseerd en de operationele efficiëntie van het MOCVD-systeem wordt gemaximaliseerd.