Producten

Semicorex is een professionele fabrikant en leverancier in China. Onze fabriek levert vat susceptor, mocvd susceptor, waferboot, enz. Extreem ontwerp, hoogwaardige grondstoffen, hoge prestaties en een concurrerende prijs zijn wat elke klant wil, en dat is ook wat wij u kunnen bieden. Wij nemen hoge kwaliteit, redelijke prijs en perfecte service.
View as  
 
RTP-drager voor MOCVD epitaxiale groei

RTP-drager voor MOCVD epitaxiale groei

Semicorex RTP Carrier voor MOCVD Epitaxiale groei is ideaal voor toepassingen voor de verwerking van halfgeleiderwafels, inclusief epitaxiale groei en verwerking van wafels. Koolstofgrafietkroezen en kwartskroezen worden door MOCVD verwerkt op het oppervlak van grafiet, keramiek, enz. Onze producten hebben een goed prijsvoordeel en bestrijken veel van de Europese en Amerikaanse markten. We kijken ernaar uit om uw langetermijnpartner in China te worden.

Lees verderStuur onderzoek
SiC-gecoate ICP-component

SiC-gecoate ICP-component

De SiC-gecoate ICP-component van Semicorex is speciaal ontworpen voor waferbehandelingsprocessen bij hoge temperaturen, zoals epitaxie en MOCVD. Met een fijne SiC-kristalcoating bieden onze dragers superieure hittebestendigheid, gelijkmatige thermische uniformiteit en duurzame chemische bestendigheid.

Lees verderStuur onderzoek
SiC-coating voor hoge temperaturen voor plasma-etskamers

SiC-coating voor hoge temperaturen voor plasma-etskamers

Als het gaat om waferbehandelingsprocessen zoals epitaxie en MOCVD, is de hoge temperatuur SiC-coating van Semicorex voor plasma-etskamers de beste keuze. Onze dragers bieden superieure hittebestendigheid, gelijkmatige thermische uniformiteit en duurzame chemische bestendigheid dankzij onze fijne SiC-kristalcoating.

Lees verderStuur onderzoek
ICP-plasma-etsbak

ICP-plasma-etsbak

De ICP-plasma-etsbak van Semicorex is speciaal ontworpen voor waferbehandelingsprocessen bij hoge temperaturen, zoals epitaxie en MOCVD. Met een stabiele oxidatieweerstand bij hoge temperaturen tot 1600 °C bieden onze dragers gelijkmatige thermische profielen en laminaire gasstroompatronen en voorkomen ze vervuiling of verspreiding van onzuiverheden.

Lees verderStuur onderzoek
ICP-plasma-etssysteem

ICP-plasma-etssysteem

De SiC-gecoate drager van Semicorex voor ICP-plasma-etssysteem is een betrouwbare en kosteneffectieve oplossing voor waferbehandelingsprocessen bij hoge temperaturen, zoals epitaxie en MOCVD. Onze dragers zijn voorzien van een fijne SiC-kristalcoating die superieure hittebestendigheid, gelijkmatige thermische uniformiteit en duurzame chemische bestendigheid biedt.

Lees verderStuur onderzoek
Inductief gekoppeld plasma (ICP)

Inductief gekoppeld plasma (ICP)

De met siliciumcarbide gecoate susceptor van Semicorex voor inductief gekoppeld plasma (ICP) is speciaal ontworpen voor waferbehandelingsprocessen bij hoge temperaturen, zoals epitaxie en MOCVD. Met een stabiele oxidatieweerstand bij hoge temperaturen tot 1600°C zorgen onze dragers voor gelijkmatige thermische profielen en laminaire gasstroompatronen en voorkomen ze vervuiling of verspreiding van onzuiverheden.

Lees verderStuur onderzoek
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept